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厚膜用光致抗蚀剂组合物及厚膜光致抗蚀剂图案形成方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202010681978.4
申请日：
2020-07-15
公开(公告)号：
CN112241106A
公开(公告)日：
2021-01-19
发明(设计)人：
柳大喆
赵恩率
大野庆晃
申请人：
申请人地址：
日本国神奈川县
IPC主分类号：
G03F7004
IPC分类号：
G03F720
G03F730
代理机构：
上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291
代理人：
陈亦欧;毛立群
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2021-01-19 | 公开 | 公开 |
| 2022-04-15 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/004 申请日:20200715 |