光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110106359.7

申请日：

2021-01-26

公开(公告)号：

CN113238457A

公开(公告)日：

2021-08-10

发明(设计)人：

杨立柏张庆裕

申请人：

申请人地址：

中国台湾新竹市

IPC主分类号：

G03F7004

IPC分类号：

G03F156

代理机构：

北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258

代理人：

张兵兵

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-08-10	公开	公开
2021-08-27	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/004 申请日:20210126

共 50 条

[1]

光致抗蚀剂下层和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

訾安仁 ;

林进祥 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN113176708A ,2021-07-27

[2]

光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

何俊智 ;

张庆裕 ;

林进祥 .

中国专利 :CN111007695B ,2025-06-06

[3]

光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

何俊智 ;

张庆裕 ;

林进祥 .

中国专利 :CN111007695A ,2020-04-14

[4]

光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

杨立柏 ;

赖韦翰 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN113359391B ,2024-09-24

[5]

光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

杨立柏 ;

赖韦翰 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN113359391A ,2021-09-07

[6]

光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

訾安仁 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN112859515A ,2021-05-28

[7]

光致抗蚀剂组合物和光致抗蚀剂图案的制造方法 [P].

李光武 ;

陈津江 .

中国专利 :CN117608167A ,2024-02-27

[8]

光致抗蚀剂组合物及形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

郑载昌 .

中国专利 :CN100383666C ,2005-05-25

[9]

光致抗蚀剂层表面处理和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

郭怡辰 ;

刘之诚 ;

翁明晖 ;

魏嘉林 ;

陈彦儒 ;

李志鸿 ;

郑雅如 ;

杨棋铭 ;

李资良 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN113156770B ,2025-01-17

[10]

化学增幅型光致抗蚀剂组合物、光致抗蚀剂图案和用于制备光致抗蚀剂图案的方法 [P].

林敏映 ;

金智慧 ;

金容美 .

中国专利 :CN110325915B ,2019-10-11

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