化学增幅型光致抗蚀剂组合物、光致抗蚀剂图案和用于制备光致抗蚀剂图案的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201880012894.2

申请日：

2018-09-14

公开(公告)号：

CN110325915B

公开(公告)日：

2019-10-11

发明(设计)人：

林敏映金智慧金容美

申请人：

申请人地址：

韩国首尔

IPC主分类号：

G03F7038

IPC分类号：

G03F7039 G03F720 C07D22114

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

赵丹;蔡胜有

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-10-11	公开	公开
2019-11-05	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/038 申请日:20180914
2022-11-11	授权	授权

共 50 条

[1]

化学增幅型光致抗蚀剂 [P].

工藤隆范 ;

杨帆 .

中国专利 :CN114730130A ,2022-07-08

[2]

化学增幅型光致抗蚀剂 [P].

工藤隆范 ;

杨帆 .

德国专利 :CN114730130B ,2025-04-18

[3]

光致抗蚀剂组合物和光致抗蚀剂图案的制造方法 [P].

李光武 ;

陈津江 .

中国专利 :CN117608167A ,2024-02-27

[4]

光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

杨立柏 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN113238457A ,2021-08-10

[5]

光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

杨立柏 ;

赖韦翰 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN113359391B ,2024-09-24

[6]

光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

何俊智 ;

张庆裕 ;

林进祥 .

中国专利 :CN111007695B ,2025-06-06

[7]

光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

何俊智 ;

张庆裕 ;

林进祥 .

中国专利 :CN111007695A ,2020-04-14

[8]

光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

杨立柏 ;

赖韦翰 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN113359391A ,2021-09-07

[9]

光致抗蚀剂下层和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

訾安仁 ;

林进祥 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN113176708A ,2021-07-27

[10]

光致抗蚀剂组合物和用于制备光致抗蚀剂图案的方法 [P].

市川幸司 ;

安立由香子 ;

藤田真吾 .

中国专利 :CN102749805A ,2012-10-24

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