光致抗蚀剂层表面处理和形成光致抗蚀剂图案的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110337729.8

申请日：

2021-03-30

公开(公告)号：

CN113156770B

公开(公告)日：

2025-01-17

发明(设计)人：

郭怡辰刘之诚翁明晖魏嘉林陈彦儒李志鸿郑雅如杨棋铭李资良张庆裕

申请人：

台湾积体电路制造股份有限公司

申请人地址：

中国台湾新竹市

IPC主分类号：

G03F7/16

IPC分类号：

代理机构：

北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258

代理人：

赵艳

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-01-17	授权	授权

共 50 条

[1]

光致抗蚀剂层表面处理、盖层和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

郭怡辰 ;

刘之诚 ;

翁明晖 ;

魏嘉林 ;

陈彦儒 ;

李志鸿 ;

郑雅如 ;

杨棋铭 ;

李资良 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN113156770A ,2021-07-23

[2]

光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

杨立柏 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN113238457A ,2021-08-10

[3]

光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

杨立柏 ;

赖韦翰 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN113359391B ,2024-09-24

[4]

光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

杨立柏 ;

赖韦翰 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN113359391A ,2021-09-07

[5]

光致抗蚀剂下层和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

訾安仁 ;

林进祥 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN113176708A ,2021-07-27

[6]

光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

訾安仁 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN112859515A ,2021-05-28

[7]

光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

何俊智 ;

张庆裕 ;

林进祥 .

中国专利 :CN111007695B ,2025-06-06

[8]

光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

何俊智 ;

张庆裕 ;

林进祥 .

中国专利 :CN111007695A ,2020-04-14

[9]

形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

苏煜中 ;

葛宗翰 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN113126425A ,2021-07-16

[10]

光致抗蚀剂层的表面处理方法及光致抗蚀剂层的形成方法 [P].

黄国书 .

中国专利 :CN1818799B ,2006-08-16

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