光致抗蚀剂层的表面处理方法及光致抗蚀剂层的形成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200510051613.9

申请日：

2005-02-08

公开(公告)号：

CN1818799B

公开(公告)日：

2006-08-16

发明(设计)人：

黄国书

申请人：

申请人地址：

中国台湾新竹科学工业园区

IPC主分类号：

G03F726

IPC分类号：

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

陶凤波;侯宇

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2006-10-11	实质审查的生效	实质审查的生效
2006-08-16	公开	公开
2010-11-17	授权	授权

共 50 条

[1]

光致抗蚀剂层表面处理和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

郭怡辰 ;

刘之诚 ;

翁明晖 ;

魏嘉林 ;

陈彦儒 ;

李志鸿 ;

郑雅如 ;

杨棋铭 ;

李资良 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN113156770B ,2025-01-17

[2]

光致抗蚀剂层的形成方法 [P].

刘宇桓 ;

陈志荣 ;

黄志忠 .

中国专利 :CN101539724A ,2009-09-23

[3]

光致抗蚀剂层表面处理、盖层和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

郭怡辰 ;

刘之诚 ;

翁明晖 ;

魏嘉林 ;

陈彦儒 ;

李志鸿 ;

郑雅如 ;

杨棋铭 ;

李资良 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN113156770A ,2021-07-23

[4]

光致抗蚀剂层的显影方法 [P].

张庆裕 .

中国专利 :CN1696834A ,2005-11-16

[5]

图案化光致抗蚀剂层的形成方法 [P].

黄萌祺 ;

林正轩 ;

张复瑜 .

中国专利 :CN101561627A ,2009-10-21

[6]

正性光致抗蚀剂和形成光致抗蚀剂的方法 [P].

增田靖男 ;

奥井俊树 .

中国专利 :CN100404573C ,2006-08-23

[7]

光致抗蚀剂下层和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

訾安仁 ;

林进祥 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN113176708A ,2021-07-27

[8]

光致抗蚀剂组合物及形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

郑载昌 .

中国专利 :CN100383666C ,2005-05-25

[9]

光致抗蚀剂剥离剂及光致抗蚀剂剥离方法 [P].

邓强 .

中国专利 :CN109254507A ,2019-01-22

[10]

负型光致抗蚀剂及形成光致抗蚀图的方法 [P].

岸村真治 .

中国专利 :CN1131754A ,1996-09-25

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