光致抗蚀剂层的显影方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200510069445.6

申请日：

2005-05-10

公开(公告)号：

CN1696834A

公开(公告)日：

2005-11-16

发明(设计)人：

张庆裕

申请人：

申请人地址：

台湾省新竹科学工业园区新竹市力行六路八号

IPC主分类号：

G03F732

IPC分类号：

G03F700

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所

代理人：

刘新宇

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2005-11-16	公开	公开
2006-01-11	实质审查的生效	实质审查的生效
2010-01-06	授权	授权

共 50 条

[1]

光致抗蚀剂显影剂和使光致抗蚀剂显影的方法 [P].

翁明晖 ;

訾安仁 ;

张庆裕 ;

刘朕与 .

中国专利 :CN112748647A ,2021-05-04

[2]

光致抗蚀剂显影液 [P].

山下喜文 ;

川田聪志 ;

野仲徹 .

中国专利 :CN1392973A ,2003-01-22

[3]

光致抗蚀剂的显影方法及显影装置 [P].

星加正人 .

中国专利 :CN1716103A ,2006-01-04

[4]

光致抗蚀剂显影剂组合物 [P].

朴赞硕 ;

金吉来 ;

朴春镐 ;

金敬娥 .

中国专利 :CN1251030C ,2004-06-09

[5]

光致抗蚀剂用显影液 [P].

神田隆 ;

近藤正树 .

中国专利 :CN1618042A ,2005-05-18

[6]

光致抗蚀剂显影废水的处理方法 [P].

山田聪 .

中国专利 :CN103443032A ,2013-12-11

[7]

防止光致抗蚀剂显影剂蚀刻的缓冲层 [P].

A.E.梅格兰特 .

中国专利 :CN109844642B ,2019-06-04

[8]

光致抗蚀剂显影液组合物及光致抗蚀剂图案形成方法 [P].

李喻珍 ;

鲁京奎 .

中国专利 :CN107870524B ,2018-04-03

[9]

光致抗蚀剂层的表面处理方法及光致抗蚀剂层的形成方法 [P].

黄国书 .

中国专利 :CN1818799B ,2006-08-16

[10]

高反差正性光致抗蚀剂显影的方法 [P].

詹姆斯·马丁·刘易斯 .

中国专利 :CN85107347A ,1986-08-20

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