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负型光致抗蚀剂及形成光致抗蚀图的方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN95119744.4
申请日：
1995-11-20
公开(公告)号：
CN1131754A
公开(公告)日：
1996-09-25
发明(设计)人：
岸村真治
申请人：
申请人地址：
日本东京
IPC主分类号：
G03F7004
IPC分类号：
代理机构：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人：
任宗华
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 1996-09-25 | 公开 | 公开 |
| 2001-10-17 | 发明专利申请公布后的视为撤回 | 发明专利申请公布后的视为撤回 |
| 1996-08-28 | 实质审查请求的生效 | 实质审查请求的生效 |
| 1996-12-25 | 实质审查请求的生效 | 实质审查请求的生效 |