正性光致抗蚀剂和形成光致抗蚀剂的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200480020267.1

申请日：

2004-07-15

公开(公告)号：

CN100404573C

公开(公告)日：

2006-08-23

发明(设计)人：

增田靖男奥井俊树

申请人：

申请人地址：

日本神奈川县

IPC主分类号：

C08G800

IPC分类号：

C08G1400 G03F7023

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

陈长会

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2006-08-23	公开	公开
2011-04-13	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101062753719 IPC(主分类):C08G 8/00 专利号:ZL2004800202671 申请日:20040715 授权公告日:20080723 终止日期:20090817
2008-07-23	授权	授权
2006-10-18	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

正性光致抗蚀剂组合物、使用其的光致抗蚀剂图案和光致抗蚀剂图案的制造方法 [P].

林敏映 ;

李泰燮 ;

金智慧 .

中国专利 :CN109429511B ,2019-03-05

[2]

光致抗蚀剂下层和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

訾安仁 ;

林进祥 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN113176708A ,2021-07-27

[3]

光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

杨立柏 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN113238457A ,2021-08-10

[4]

光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

杨立柏 ;

赖韦翰 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN113359391B ,2024-09-24

[5]

光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

訾安仁 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN112859515A ,2021-05-28

[6]

光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

何俊智 ;

张庆裕 ;

林进祥 .

中国专利 :CN111007695B ,2025-06-06

[7]

光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

何俊智 ;

张庆裕 ;

林进祥 .

中国专利 :CN111007695A ,2020-04-14

[8]

光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

杨立柏 ;

赖韦翰 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN113359391A ,2021-09-07

[9]

正性光致抗蚀剂组合物 [P].

文奉锡 ;

金孝精 ;

金珍坤 ;

柳漾泫 ;

金敃志 ;

郑美敬 ;

柳权壹 ;

郑乐七 ;

金先镐 .

中国专利 :CN101116036B ,2008-01-30

[10]

光致抗蚀剂层表面处理和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

郭怡辰 ;

刘之诚 ;

翁明晖 ;

魏嘉林 ;

陈彦儒 ;

李志鸿 ;

郑雅如 ;

杨棋铭 ;

李资良 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN113156770B ,2025-01-17

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