光致抗蚀剂层的形成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200810085488.7

申请日：

2008-03-19

公开(公告)号：

CN101539724A

公开(公告)日：

2009-09-23

发明(设计)人：

刘宇桓陈志荣黄志忠

申请人：

申请人地址：

中国台湾新竹科学工业园区

IPC主分类号：

G03F716

IPC分类号：

代理机构：

北京市柳沈律师事务所

代理人：

彭久云

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-09-23	公开	公开
2009-11-11	实质审查的生效	实质审查的生效
2012-07-11	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101425529860 IPC(主分类):G03F 7/16 专利申请号:2008100854887 公开日:20090923

共 50 条

[1]

光致抗蚀剂层的表面处理方法及光致抗蚀剂层的形成方法 [P].

黄国书 .

中国专利 :CN1818799B ,2006-08-16

[2]

图案化光致抗蚀剂层的形成方法 [P].

黄萌祺 ;

林正轩 ;

张复瑜 .

中国专利 :CN101561627A ,2009-10-21

[3]

光致抗蚀剂下层和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

訾安仁 ;

林进祥 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN113176708A ,2021-07-27

[4]

光致抗蚀剂图案形成方法 [P].

角田力太 ;

柳楠熙 ;

染谷康夫 .

日本专利 :CN112946999B ,2025-12-23

[5]

光致抗蚀剂图案形成方法 [P].

角田力太 ;

柳楠熙 ;

染谷康夫 .

中国专利 :CN112946999A ,2021-06-11

[6]

光致抗蚀剂图案形成方法 [P].

赵庸桓 ;

全吉敏 ;

朴汉雨 .

中国专利 :CN105319837A ,2016-02-10

[7]

光致抗蚀剂元件的形成方法 [P].

D·W·约翰逊 .

中国专利 :CN101176038A ,2008-05-07

[8]

光致抗蚀剂层表面处理和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

郭怡辰 ;

刘之诚 ;

翁明晖 ;

魏嘉林 ;

陈彦儒 ;

李志鸿 ;

郑雅如 ;

杨棋铭 ;

李资良 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN113156770B ,2025-01-17

[9]

光致抗蚀剂层表面处理、盖层和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

郭怡辰 ;

刘之诚 ;

翁明晖 ;

魏嘉林 ;

陈彦儒 ;

李志鸿 ;

郑雅如 ;

杨棋铭 ;

李资良 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN113156770A ,2021-07-23

[10]

光致抗蚀剂掩膜形成方法 [P].

孟兆祥 ;

吴永玉 .

中国专利 :CN101246309A ,2008-08-20

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