光致抗蚀剂元件的形成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200680016443.3

申请日：

2006-05-12

公开(公告)号：

CN101176038A

公开(公告)日：

2008-05-07

发明(设计)人：

D·W·约翰逊

申请人：

申请人地址：

美国马萨诸塞

IPC主分类号：

G03C176

IPC分类号：

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

陈季壮

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-03-23	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101076280882 IPC(主分类):G03C 1/76 专利申请号:2006800164433 公开日:20080507
2008-05-07	公开	公开
2008-07-02	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

光致抗蚀剂图案形成方法 [P].

角田力太 ;

柳楠熙 ;

染谷康夫 .

日本专利 :CN112946999B ,2025-12-23

[2]

光致抗蚀剂图案形成方法 [P].

角田力太 ;

柳楠熙 ;

染谷康夫 .

中国专利 :CN112946999A ,2021-06-11

[3]

光致抗蚀剂图案形成方法 [P].

赵庸桓 ;

全吉敏 ;

朴汉雨 .

中国专利 :CN105319837A ,2016-02-10

[4]

光致抗蚀剂层的形成方法 [P].

刘宇桓 ;

陈志荣 ;

黄志忠 .

中国专利 :CN101539724A ,2009-09-23

[5]

光致抗蚀剂掩膜形成方法 [P].

孟兆祥 ;

吴永玉 .

中国专利 :CN101246309A ,2008-08-20

[6]

正性光致抗蚀剂和形成光致抗蚀剂的方法 [P].

增田靖男 ;

奥井俊树 .

中国专利 :CN100404573C ,2006-08-23

[7]

光致抗蚀剂下层和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

訾安仁 ;

林进祥 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN113176708A ,2021-07-27

[8]

光致抗蚀剂层的表面处理方法及光致抗蚀剂层的形成方法 [P].

黄国书 .

中国专利 :CN1818799B ,2006-08-16

[9]

光致抗蚀剂组合物、其涂布方法及抗蚀剂图形的形成方法 [P].

池本准 ;

岛仓纯一 ;

高野圣史 ;

松尾二郎 .

中国专利 :CN101154040B ,2008-04-02

[10]

光致抗蚀图形的形成方法 [P].

康文兵 ;

松尾祥子 ;

木村健 ;

西胁良典 ;

田中初幸 .

中国专利 :CN1288590A ,2001-03-21

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