光致抗蚀剂图案形成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201510353799.7

申请日：

2015-06-24

公开(公告)号：

CN105319837A

公开(公告)日：

2016-02-10

发明(设计)人：

赵庸桓全吉敏朴汉雨

申请人：

申请人地址：

韩国全罗北道

IPC主分类号：

G03F700

IPC分类号：

G03F720

代理机构：

北京鼎宏元正知识产权代理事务所(普通合伙) 11458

代理人：

李波;武媛

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-03-09	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101650097176 IPC(主分类):G03F 7/00 专利申请号:2015103537997 申请日:20150624
2019-10-25	授权	授权
2016-02-10	公开	公开

共 50 条

[1]

光致抗蚀剂图案形成方法 [P].

角田力太 ;

柳楠熙 ;

染谷康夫 .

日本专利 :CN112946999B ,2025-12-23

[2]

光致抗蚀剂图案形成方法 [P].

角田力太 ;

柳楠熙 ;

染谷康夫 .

中国专利 :CN112946999A ,2021-06-11

[3]

光致抗蚀剂下层和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

訾安仁 ;

林进祥 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN113176708A ,2021-07-27

[4]

形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

吴得鸿 ;

张圣岳 ;

吴承翰 .

中国专利 :CN1924701A ,2007-03-07

[5]

形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

苏煜中 ;

葛宗翰 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN113126425A ,2021-07-16

[6]

光致抗蚀剂组合物和抗蚀图案的形成方法 [P].

平山拓 ;

藤村悟史 ;

远藤浩太朗 ;

石塚启太 .

中国专利 :CN1754125A ,2006-03-29

[7]

光致抗蚀剂组合物及图案形成方法 [P].

T·卡多拉西亚 ;

J·A·迪西斯托 ;

李忠奉 ;

李明琦 ;

T·马兰戈尼 ;

C·吴 ;

刘聪 ;

G·P·普罗科普威克 .

中国专利 :CN114063385A ,2022-02-18

[8]

光致抗蚀剂组合物及图案形成方法 [P].

E·阿卡德 ;

B·温宁 ;

C-B·李 ;

J·W·萨克莱 ;

K·杨 ;

J·F·卡梅伦 .

美国专利 :CN119225117A ,2024-12-31

[9]

图案化光致抗蚀剂层的形成方法 [P].

黄萌祺 ;

林正轩 ;

张复瑜 .

中国专利 :CN101561627A ,2009-10-21

[10]

光致抗蚀剂组合物及图案形成方法 [P].

羽贺满 ;

贝沼邦雄 ;

串田修学 .

中国专利 :CN112666793A ,2021-04-16

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