一种高精度低应力光学薄膜沉积装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202020073771.4

申请日：

2020-01-14

公开(公告)号：

CN212103012U

公开(公告)日：

2020-12-08

发明(设计)人：

刘浩赵祖珍沈洋刘伟强

申请人：

申请人地址：

518057 广东省深圳市南山区高新南七道19号

IPC主分类号：

C23C2804

IPC分类号：

C23C1410 C23C1434 C23C1640 C23C16455

代理机构：

深圳国海智峰知识产权代理事务所(普通合伙) 44489

代理人：

王庆海

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-12-08	授权	授权

共 50 条

[1]

一种高精度低应力光学薄膜沉积方法及装置 [P].

刘浩 ;

赵祖珍 ;

沈洋 ;

刘伟强 .

中国专利 :CN113186529A ,2021-07-30

[2]

一种高精度光学薄膜模切装置 [P].

叶少明 .

中国专利 :CN213532931U ,2021-06-25

[3]

一种高精度光学薄膜模切装置 [P].

邢志群 ;

伍相羽 .

中国专利 :CN222328477U ,2025-01-10

[4]

光学薄膜沉积装置及光学薄膜的制造方法 [P].

长江亦周 ;

姜友松 ;

塩野一郎 ;

清水匡之 ;

林达也 ;

古川诚 ;

村田尊则 .

中国专利 :CN101861408B ,2010-10-13

[5]

一种光学薄膜沉积设备及方法 [P].

刘浩 ;

赵祖珍 ;

沈洋 ;

孙兵妹 .

中国专利 :CN112538613A ,2021-03-23

[6]

一种提升光学薄膜沉积精度的方法 [P].

王胭脂 ;

张宇晖 ;

贺洪波 ;

王志皓 ;

陈昌 ;

朱晔新 ;

邵宇川 ;

易葵 ;

邵建达 .

中国专利 :CN113881926B ,2022-01-04

[7]

一种光学薄膜应力测试装置 [P].

王亚博 ;

刘国喜 ;

孙琪 ;

王相义 ;

芦淑华 .

中国专利 :CN218349677U ,2023-01-20

[8]

一种低反射光学薄膜 [P].

周樑成 .

中国专利 :CN205705587U ,2016-11-23

[9]

一种光学薄膜 [P].

谷至华 ;

汪敏 ;

施克炜 ;

陈晓东 .

中国专利 :CN204989516U ,2016-01-20

[10]

一种光学薄膜 [P].

谷至华 ;

汪敏 ;

施克炜 ;

陈晓东 .

中国专利 :CN204945414U ,2016-01-06

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