一种基于波前测量的晶体折射率非均匀性测量方法

被引：0

申请号：

CN202211344938.6

申请日：

2022-10-31

公开(公告)号：

CN115598091A

公开(公告)日：

2023-01-13

发明(设计)人：

孙晓萌张雪洁朱健强陶华张强

申请人：

申请人地址：

201800 上海市嘉定区清河路390号

IPC主分类号：

G01N2141

IPC分类号：

G01N2101

代理机构：

上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317

代理人：

张宁展

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2023-01-13	公开	公开
2023-02-07	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G01N 21/41 申请日:20221031

共 50 条

[1]

一种基于波前测量的晶体折射率非均匀性测量方法 [P].

孙晓萌 ;

张雪洁 ;

朱健强 ;

陶华 ;

张强 .

中国专利 :CN115598091B ,2024-03-01

[2]

单轴晶体双折射率的测量方法 [P].

连洁 ;

魏爱俭 ;

王青圃 .

中国专利 :CN101187631A ,2008-05-28

[3]

折射率的测量方法和折射率的测量装置 [P].

杉本智洋 .

中国专利 :CN102435584B ,2012-05-02

[4]

一种折射率测量设备、折射率测量方法和装置 [P].

牛亚男 ;

彭锦涛 ;

彭宽军 .

中国专利 :CN106290254A ,2017-01-04

[5]

折射率分布测量方法和折射率分布测量设备 [P].

加藤正磨 .

中国专利 :CN102297758A ,2011-12-28

[6]

折射率分布测量方法和折射率分布测量装置 [P].

杉本智洋 .

中国专利 :CN102062677B ,2011-05-18

[7]

折射率分布测量方法和折射率分布测量设备 [P].

加藤正磨 .

中国专利 :CN101762376A ,2010-06-30

[8]

折射率分布测量方法和折射率分布测量装置 [P].

杉本智洋 .

中国专利 :CN102918373B ,2013-02-06

[9]

液体折射率测量方法 [P].

范晓辉 ;

韦秋叶 ;

卢敏萍 ;

何日梅 ;

黄翊 ;

冯杰 .

中国专利 :CN112345493A ,2021-02-09

[10]

介质折射率的测量装置及其测量方法 [P].

张培晴 ;

刘永兴 ;

黄国松 ;

戴世勋 ;

张培全 ;

王训四 ;

沈祥 ;

徐铁峰 ;

聂秋华 .

中国专利 :CN105092529A ,2015-11-25

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