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一种电子束熔炼过程中提高挥发性杂质除杂量的方法及装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201910304735.6
申请日
:
2019-04-16
公开(公告)号
:
CN109850905A
公开(公告)日
:
2019-06-07
发明(设计)人
:
姜大川
王唯一
李鹏廷
石爽
申请人
:
申请人地址
:
116024 辽宁省大连市高新园区凌工路2号
IPC主分类号
:
C01B33037
IPC分类号
:
代理机构
:
大连东方专利代理有限责任公司 21212
代理人
:
唐楠;李洪福
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2019-07-02
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C01B 33/037 申请日:20190416
2019-06-07
公开
公开
2020-11-06
授权
授权
共 50 条
[1]
电子束熔炼去除硅中挥发性杂质的装置
[P].
孙雨萱
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孙雨萱
;
郭校亮
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郭校亮
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张磊
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张磊
;
张思源
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张思源
;
肖承祥
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肖承祥
.
中国专利
:CN209383398U
,2019-09-13
[2]
电子束熔炼去除硅中挥发性杂质的方法及装置
[P].
孙雨萱
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孙雨萱
;
郭校亮
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郭校亮
;
张磊
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张磊
;
张思源
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张思源
;
肖承祥
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肖承祥
.
中国专利
:CN109292778A
,2019-02-01
[3]
电子束熔炼高效去除硅中杂质磷的方法及装置
[P].
战丽姝
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战丽姝
;
谭毅
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谭毅
;
董伟
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董伟
;
李国斌
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李国斌
.
中国专利
:CN101941698B
,2011-01-12
[4]
一种提高电子束熔炼多晶硅效率的方法及装置
[P].
唐子凡
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唐子凡
;
张磊
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张磊
;
庞大宇
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庞大宇
;
肖承祥
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肖承祥
;
张思源
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张思源
.
中国专利
:CN109133067A
,2019-01-04
[5]
电子束熔炼液态硅除氧的方法及其装置
[P].
谭毅
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谭毅
;
姜大川
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姜大川
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安广野
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安广野
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郭校亮
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郭校亮
;
王登科
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王登科
.
中国专利
:CN103738965A
,2014-04-23
[6]
一种电子束诱导定向凝固除杂的方法
[P].
谭毅
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谭毅
;
姜大川
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姜大川
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石爽
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石爽
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郭校亮
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郭校亮
.
中国专利
:CN102786059A
,2012-11-21
[7]
一种多电子束的真空电子束熔炼炉
[P].
张爱栋
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张爱栋
;
李杨
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李杨
;
赵增群
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赵增群
.
中国专利
:CN216954023U
,2022-07-12
[8]
一种降低电子束熔炼多晶硅能耗的装置与方法
[P].
姜大川
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姜大川
;
王登科
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王登科
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石爽
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石爽
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李鹏廷
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李鹏廷
;
谭毅
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谭毅
.
中国专利
:CN104528734A
,2015-04-22
[9]
一种提高电子束熔炼多晶硅效率的装置
[P].
唐子凡
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唐子凡
;
张磊
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张磊
;
庞大宇
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庞大宇
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肖承祥
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肖承祥
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张思源
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张思源
.
中国专利
:CN209161503U
,2019-07-26
[10]
多晶硅电子束熔炼过程中减少硅液飞溅的方法
[P].
王登科
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王登科
;
姜大川
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姜大川
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谭毅
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谭毅
.
中国专利
:CN103570024A
,2014-02-12
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