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包括使用经训练机器学习模型的光学邻近效应校正的用于确定掩模图案的方法
被引：0
申请号：
CN202180014147.4
申请日：
2021-02-04
公开(公告)号：
CN115087925A
公开(公告)日：
2022-09-20
发明(设计)人：
曹宇
陶峻
张权
束永生
冯韦钧
申请人：
申请人地址：
荷兰维德霍温
IPC主分类号：
G03F136
IPC分类号：
G03F720
代理机构：
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人：
王益
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2022-09-20 | 公开 | 公开 |