基于机器学习的逆光学邻近效应校正和过程模型校准

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201980040229.9

申请日：

2019-05-23

公开(公告)号：

CN112384860A

公开(公告)日：

2021-02-19

发明(设计)人：

马里纳斯·范登布林克曹宇邹毅

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G03F136

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

张启程

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-03-09	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20190523
2021-02-19	公开	公开

共 50 条

[1]

基于机器学习的逆光学邻近效应校正和过程模型校准 [P].

马里纳斯·范登布林克 ;

曹宇 ;

邹毅 .

:CN117724300A ,2024-03-19

[2]

训练机器学习模型以确定掩模的光学邻近效应校正的方法 [P].

陶峻 ;

S·H·L·巴伦 ;

苏静 ;

罗亚 ;

曹宇 .

中国专利 :CN113454532A ,2021-09-28

[3]

训练机器学习模型以确定掩模的光学邻近效应校正的方法 [P].

陶峻 ;

S·H·L·巴伦 ;

苏静 ;

罗亚 ;

曹宇 .

:CN120406039A ,2025-08-01

[4]

用于机器学习辅助的光学邻近效应误差校正的训练方法 [P].

文载寅 .

:CN113614638B ,2025-04-01

[5]

用于机器学习辅助的光学邻近效应误差校正的训练方法 [P].

文载寅 .

中国专利 :CN113614638A ,2021-11-05

[6]

光学邻近效应校正的方法 [P].

廖显煌 ;

曾鼎程 ;

胡展源 .

中国专利 :CN115100047A ,2022-09-23

[7]

包括使用经训练机器学习模型的光学邻近效应校正的用于确定掩模图案的方法 [P].

曹宇 ;

陶峻 ;

张权 ;

束永生 ;

冯韦钧 .

中国专利 :CN115087925A ,2022-09-20

[8]

验证光学邻近效应校正的方法 [P].

金基盛 .

中国专利 :CN113219785A ,2021-08-06

[9]

基于Abbe矢量成像模型的光学邻近效应校正的优化方法 [P].

马旭 ;

李艳秋 ;

董立松 .

中国专利 :CN102323723B ,2012-01-18

[10]

用于光刻过程窗口最大化光学邻近效应校正的方法和系统 [P].

叶军 ;

曹宇 ;

冯函英 .

中国专利 :CN101751502A ,2010-06-23

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