作为金属铜沉积前体的草酸二铜(Ⅰ)配合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200480011710.9

申请日：

2004-03-29

公开(公告)号：

CN100467474C

公开(公告)日：

2006-05-31

发明(设计)人：

K·克勒

申请人：

申请人地址：

德国路德维希港

IPC主分类号：

C07F108

IPC分类号：

代理机构：

北京市中咨律师事务所

代理人：

刘金辉;隗永良

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-03-17	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C07F 1/08 申请日:20040329 授权公告日:20090311 终止日期:20190329
2009-03-11	授权	授权
2006-07-26	实质审查的生效	实质审查的生效
2006-05-31	公开	公开

共 50 条

[1]

作为金属铜沉积前体的草酸二铜（I）络合物 [P].

K·克勒 ;

F·迈尔 .

中国专利 :CN1300149C ,2005-08-31

[2]

采用甲酸铜配合物的铜沉积方法 [P].

J·S·汤普森 .

中国专利 :CN1602314A ,2005-03-30

[3]

通过原子层沉积用于沉积铜膜的挥发性铜(Ⅰ)配合物 [P].

A·Z·布拉德利 ;

J·S·汤普森 .

中国专利 :CN1774523A ,2006-05-17

[4]

甲酸铜(I)配合物 [P].

L·维滕贝克尔 ;

H·朗 ;

Y·沈 .

中国专利 :CN1894192B ,2007-01-10

[5]

一种四吡啶草酸铜金属配合物的制备及用途 [P].

罗梅 ;

胥皓瀚 ;

孟祥高 .

中国专利 :CN119462701A ,2025-02-18

[6]

铜配合物的组合物 [P].

钱德拉谢卡尔·库尔卡尼 ;

谢尔盖·兹拉托戈尔斯基 ;

普拉温·肯德雷卡 .

英国专利 :CN120359020A ,2025-07-22

[7]

用于通过原子层沉积来沉积铜膜的挥发性铜(II)配合物 [P].

A·Z·布拉利 ;

D·L·托恩 ;

J·S·汤普森 .

中国专利 :CN100360709C ,2005-05-18

[8]

用于光电设备的铜(I)配合物 [P].

T·鲍曼 ;

T·治拉伯 ;

L·伯格曼 .

中国专利 :CN103797017A ,2014-05-14

[9]

含巯甲基二核铜(Ⅱ)配合物的用途 [P].

江国庆 ;

姜国民 ;

顾学芳 ;

田澍 ;

詹文毅 ;

颜瑞 ;

郭小青 ;

郭向向 .

中国专利 :CN105461741A ,2016-04-06

[10]

铜金属配合物及其制备方法与用途 [P].

崔建国 ;

黄燕敏 ;

甘春芳 ;

何冬梅 ;

莫宇星 ;

卢瑞 ;

莫平玲 .

中国专利 :CN106432112A ,2017-02-22

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