光学薄膜及其应用、光学薄膜的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200510125129.6

申请日：

2005-11-18

公开(公告)号：

CN1779490A

公开(公告)日：

2006-05-31

发明(设计)人：

村上奈穗吉见裕之

申请人：

申请人地址：

日本大阪府

IPC主分类号：

G02B110

IPC分类号：

G02B108 G02B530

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

朱丹

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2007-10-10	授权	授权
2006-07-26	实质审查的生效	实质审查的生效
2011-02-02	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101035916083 IPC(主分类):G02B 1/10 专利号:ZL2005101251296 申请日:20051118 授权公告日:20071010 终止日期:20091218
2006-05-31	公开	公开

共 50 条

[1]

光学薄膜及其应用、光学薄膜的制造方法 [P].

村上奈穗 ;

吉见裕之 .

中国专利 :CN101105610A ,2008-01-16

[2]

光学薄膜的制造方法及光学薄膜 [P].

下田一弘 ;

山本刚司 .

中国专利 :CN101324679B ,2008-12-17

[3]

光学薄膜 [P].

村上奈穗 ;

西小路祐一 ;

林政毅 ;

吉见裕之 .

中国专利 :CN1296733C ,2005-08-17

[4]

光学薄膜的制造方法、光学薄膜及光学薄膜的制造装置 [P].

仲井宏太 ;

田中悟 ;

须藤定治 .

中国专利 :CN103119482A ,2013-05-22

[5]

光学薄膜的制造方法和光学薄膜 [P].

西本圭司 ;

井上知晶 .

日本专利 :CN116583619B ,2025-11-25

[6]

光学薄膜的制造方法及光学薄膜 [P].

山田朋文 ;

下田一弘 .

中国专利 :CN101520576B ,2009-09-02

[7]

光学薄膜以及光学薄膜的制造方法 [P].

小岛高明 .

中国专利 :CN107430228A ,2017-12-01

[8]

光学薄膜 [P].

谷泽克也 ;

松本匡弘 .

日本专利 :CN119895301A ,2025-04-25

[9]

光学薄膜 [P].

谷泽克也 ;

松本匡弘 .

日本专利 :CN119948373A ,2025-05-06

[10]

光学薄膜及其制造方法 [P].

饭田敏行 ;

平山智之 ;

大森裕 ;

黑木美由纪 ;

清水永惠 .

中国专利 :CN101542339A ,2009-09-23

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