光学薄膜的制造方法、光学薄膜及光学薄膜的制造装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201180045379.2

申请日：

2011-10-14

公开(公告)号：

CN103119482A

公开(公告)日：

2013-05-22

发明(设计)人：

仲井宏太田中悟须藤定治

申请人：

申请人地址：

日本大阪府

IPC主分类号：

G02B530

IPC分类号：

B26D710

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;张会华

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-03-09	授权	授权
2013-06-19	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101475923485 IPC(主分类):G02B 5/30 专利申请号:2011800453792 申请日:20111014
2013-05-22	公开	公开
2021-09-24	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02B 5/30 申请日:20111014 授权公告日:20160309 终止日期:20201014

共 50 条

[1]

光学薄膜的制造方法及光学薄膜 [P].

山田朋文 ;

下田一弘 .

中国专利 :CN101520576B ,2009-09-02

[2]

光学薄膜的制造方法及光学薄膜 [P].

下田一弘 ;

山本刚司 .

中国专利 :CN101324679B ,2008-12-17

[3]

光学薄膜的制造方法和光学薄膜制造装置 [P].

泽田成敏 ;

村上尚史 ;

宫本幸大 ;

伊藤帆奈美 ;

梨木智刚 .

中国专利 :CN114318282A ,2022-04-12

[4]

光学薄膜的制造方法和光学薄膜 [P].

西本圭司 ;

井上知晶 .

日本专利 :CN116583619B ,2025-11-25

[5]

光学薄膜以及光学薄膜的制造方法 [P].

小岛高明 .

中国专利 :CN107430228A ,2017-12-01

[6]

光学薄膜、光学构件及光学薄膜的制造方法 [P].

水町靖 ;

能势正章 ;

长谷川研人 ;

青木洋辅 .

中国专利 :CN112005131A ,2020-11-27

[7]

光学薄膜切断装置及光学薄膜制造方法 [P].

森正春 ;

大平智嗣 ;

白石裕一 ;

筱塚淳彦 .

中国专利 :CN101249658A ,2008-08-27

[8]

光学薄膜沉积装置及光学薄膜的制造方法 [P].

长江亦周 ;

姜友松 ;

塩野一郎 ;

清水匡之 ;

林达也 ;

古川诚 ;

村田尊则 .

中国专利 :CN101861408B ,2010-10-13

[9]

光学薄膜的处理方法、光学薄膜的处理装置及光学薄膜的制造方法 [P].

森永义章 ;

中嶋孝治 ;

田中武志 .

中国专利 :CN101223025B ,2008-07-16

[10]

光学薄膜及其应用、光学薄膜的制造方法 [P].

村上奈穗 ;

吉见裕之 .

中国专利 :CN101105610A ,2008-01-16

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