光学薄膜的处理方法、光学薄膜的处理装置及光学薄膜的制造方法

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专利类型
发明
申请号
CN200680025475.X
申请日
2006-07-04
公开(公告)号
CN101223025B
公开(公告)日
2008-07-16
发明(设计)人
森永义章 中嶋孝治 田中武志
申请人
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
B29C7100
IPC分类号
B05D704 B05C114 C08J700 B05D312 G02B111
代理机构
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人
郑树槐;张平元
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
光学薄膜的制造方法、光学薄膜及光学薄膜的制造装置 [P]. 
仲井宏太 ;
田中悟 ;
须藤定治 .
中国专利 :CN103119482A ,2013-05-22
[2]
光学薄膜的制造方法及光学薄膜 [P]. 
山田朋文 ;
下田一弘 .
中国专利 :CN101520576B ,2009-09-02
[3]
光学薄膜的制造方法及光学薄膜 [P]. 
下田一弘 ;
山本刚司 .
中国专利 :CN101324679B ,2008-12-17
[4]
光学薄膜的制造方法和光学薄膜 [P]. 
西本圭司 ;
井上知晶 .
日本专利 :CN116583619B ,2025-11-25
[5]
光学薄膜以及光学薄膜的制造方法 [P]. 
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中国专利 :CN107430228A ,2017-12-01
[6]
光学薄膜、光学构件及光学薄膜的制造方法 [P]. 
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能势正章 ;
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青木洋辅 .
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[7]
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纪诺 ;
姚思彤 ;
胡思旭 ;
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[8]
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刘湃 ;
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[9]
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姜友松 ;
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[10]
光学薄膜及其应用、光学薄膜的制造方法 [P]. 
村上奈穗 ;
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