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量测设备和用于测量结构的方法和光刻系统

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201780051622.9
申请日：
2017-08-10
公开(公告)号：
CN109643068B
公开(公告)日：
2019-04-16
发明(设计)人：
N·潘迪
申请人：
申请人地址：
荷兰维德霍温
IPC主分类号：
G03F720
IPC分类号：
G01N2147 G01N2195
代理机构：
北京市金杜律师事务所 11256
代理人：
王茂华;张宁
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2019-05-10 实质审查的生效 实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20170810
2019-04-16 公开 公开
2021-10-01 授权 授权
共 50 条
[1]
量测设备、光刻系统和测量结构的方法 [P]. 
乔安科·拉文斯卑尔根 ;
D·阿克布卢特 ;
N·潘迪 ;
廉晋 .
中国专利 :CN111226174B ,2020-06-02
[2]
量测设备、光刻系统和测量结构的方法 [P]. 
N·潘迪 ;
A·E·A·科伦 .
中国专利 :CN110050232A ,2019-07-23
[3]
量测方法和设备、光刻系统和器件制造方法 [P]. 
H·斯米尔德 ;
A·布里克尔 ;
W·考恩 ;
M·库比斯 ;
P·沃纳尔 .
中国专利 :CN103201682B ,2013-07-10
[4]
量测系统、光刻设备和方法 [P]. 
塞巴斯蒂安努斯·阿德里安努斯·古德恩 ;
S·R·胡伊斯曼 ;
F·阿尔佩吉安尼 .
:CN117882012A ,2024-04-12
[5]
光刻设备、量测设备、光学系统和方法 [P]. 
S·斯米诺夫 .
:CN113557477B ,2024-07-02
[6]
量测方法和设备、计算机程序及光刻系统 [P]. 
N·潘迪 ;
周子理 ;
A·E·A·科伦 ;
G·范德祖克 .
中国专利 :CN108139682A ,2018-06-08
[7]
光刻设备、量测设备、光学系统和方法 [P]. 
S·斯米诺夫 .
中国专利 :CN113557477A ,2021-10-26
[8]
检查衬底的方法、量测设备和光刻系统 [P]. 
T·W·图克 ;
A·辛格 ;
G·范德祖 .
中国专利 :CN109844646A ,2019-06-04
[9]
检查衬底的方法、量测设备和光刻系统 [P]. 
T·W·图克 ;
A·辛格 ;
G·范德祖 .
中国专利 :CN111736434A ,2020-10-02
[10]
检查衬底的方法、量测设备和光刻系统 [P]. 
T·W·图克 ;
A·辛格 ;
G·范德祖 .
:CN111736434B ,2024-09-27
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