发明(设计)人:
佘小娟
廖涵
赵瑛璇
仇超
甘甫烷
申请人地址:
200050 上海市长宁区长宁路865号
IPC分类号:
G02B6124
G02B6136
代理机构:
上海泰博知识产权代理有限公司 31451
共 50 条
[7]
沉积氮化硅的方法
[P].
中国专利 :CN113330141A ,2021-08-31 [8]
用于薄膜晶体管的富氮氮化硅膜
[P].
罗德尼·顺隆·利马
论文数: 0 引用数: 0
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
罗德尼·顺隆·利马
;
金正倍
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
金正倍
;
王家锐
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
王家锐
;
崔羿
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
崔羿
;
任东吉
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
任东吉
;
崔寿永
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
崔寿永
.
美国专利 :CN121126863A ,2025-12-12 [10]
用于薄膜晶体管的富氮氮化硅膜
[P].
罗德尼·顺隆·利马
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
罗德尼·顺隆·利马
;
金正倍
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
金正倍
;
王家锐
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
王家锐
;
崔羿
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
崔羿
;
任东吉
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
任东吉
;
崔寿永
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
崔寿永
.
美国专利 :CN114303239B ,2025-09-02