导电图案的形成方法以及导电图案基板

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201380014556.X

申请日：

2013-04-02

公开(公告)号：

CN104170029A

公开(公告)日：

2014-11-26

发明(设计)人：

田仲裕之山崎宏五十岚由三伊藤豊树太田绘美子

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

H01B1300

IPC分类号：

H01B514 H05K302

代理机构：

永新专利商标代理有限公司 72002

代理人：

陈建全

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-12-24	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101592948697 IPC(主分类):H01B 13/00 专利申请号:201380014556X 申请日:20130402
2018-02-16	授权	授权
2014-11-26	公开	公开

共 50 条

[1]

感光性导电膜、使用了该感光性导电膜的导电图案的形成方法及导电图案基板 [P].

海老原雅彦 ;

太田绘美子 ;

村上泰治 ;

山崎宏 ;

田仲裕之 .

中国专利 :CN105593950B ,2016-05-18

[2]

导电图案的形成方法、导电图案基板和触摸面板传感器 [P].

山崎宏 ;

五十岚由三 .

中国专利 :CN103210350B ,2013-07-17

[3]

导电图案的形成方法、导电图案基板和触摸面板传感器 [P].

山崎宏 ;

五十岚由三 .

中国专利 :CN103336409A ,2013-10-02

[4]

导电图形的形成方法以及导电膜基板 [P].

山崎宏 .

中国专利 :CN102645840A ,2012-08-22

[5]

导电图案的形成方法、导电膜、导电图案及透明导电膜 [P].

郑光春 ;

柳志勋 ;

李仁淑 ;

成俊基 ;

韩大尚 .

中国专利 :CN104919572B ,2015-09-16

[6]

透明导电图案的形成方法、导电膜基板及制造方法 [P].

山崎宏 ;

五十岚由三 .

中国专利 :CN108008602A ,2018-05-08

[7]

导电图案形成基板的制造方法 [P].

渡部弘也 .

中国专利 :CN104205250A ,2014-12-10

[8]

感光性导电膜、导电膜的形成方法、导电图形的形成方法以及导电膜基板 [P].

山崎宏 .

中国专利 :CN102124529B ,2011-07-13

[9]

感光性导电膜、导电膜的形成方法、导电图形的形成方法以及导电膜基板 [P].

山崎宏 .

中国专利 :CN103728794B ,2014-04-16

[10]

感光性导电膜、导电膜的形成方法、导电图形的形成方法以及导电膜基板 [P].

山崎宏 .

中国专利 :CN104282360A ,2015-01-14

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