透明导电图案的形成方法、导电膜基板及制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201711435988.4

申请日：

2011-05-10

公开(公告)号：

CN108008602A

公开(公告)日：

2018-05-08

发明(设计)人：

山崎宏五十岚由三

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G03F709

IPC分类号：

G03F7004 G03F7027 G03F7028 G03F7032 G03F711 G03F720 H01B112 H01B514 H01B1300

代理机构：

北京银龙知识产权代理有限公司 11243

代理人：

钟海胜;王未东

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-06-01	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/09 申请日:20110510
2021-07-02	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G03F 7/09 申请公布日:20180508
2018-05-08	公开	公开

共 50 条

[1]

感光性导电薄膜、导电膜的形成方法和导电图案的形成方法 [P].

山崎宏 ;

五十岚由三 .

中国专利 :CN102859612A ,2013-01-02

[2]

导电图案的形成方法、导电膜、导电图案及透明导电膜 [P].

郑光春 ;

柳志勋 ;

李仁淑 ;

成俊基 ;

韩大尚 .

中国专利 :CN104919572B ,2015-09-16

[3]

导电图案的形成方法以及导电图案基板 [P].

田仲裕之 ;

山崎宏 ;

五十岚由三 ;

伊藤豊树 ;

太田绘美子 .

中国专利 :CN104170029A ,2014-11-26

[4]

透明导电膜的图案形成方法 [P].

宫川拓也 .

中国专利 :CN1265398C ,2004-12-01

[5]

透明导电成膜及透明导电图案的制造方法 [P].

山木繁 .

中国专利 :CN109564803A ,2019-04-02

[6]

感光性导电膜、导电膜的形成方法、导电图形的形成方法以及导电膜基板 [P].

山崎宏 .

中国专利 :CN102124529B ,2011-07-13

[7]

感光性导电膜、导电膜的形成方法、导电图形的形成方法以及导电膜基板 [P].

山崎宏 .

中国专利 :CN103728794B ,2014-04-16

[8]

感光性导电膜、导电膜的形成方法、导电图形的形成方法以及导电膜基板 [P].

山崎宏 .

中国专利 :CN104282360A ,2015-01-14

[9]

导电图案形成基板的制造方法 [P].

渡部弘也 .

中国专利 :CN104205250A ,2014-12-10

[10]

透明导电膜的制造方法及透明导电膜、透明导电基板以及使用有透明导电基板的器件 [P].

行延雅也 ;

大塚良广 .

中国专利 :CN102232232B ,2011-11-02

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