光学膜、相位差膜及它们的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201980076220.3

申请日：

2019-11-08

公开(公告)号：

CN113056685A

公开(公告)日：

2021-06-29

发明(设计)人：

熊泽一辉摺出寺浩成

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

G02B530

IPC分类号：

B29C4302 B29C48305 B29C5504 C08F804 C08F29704 C08J518 B29K900 B29L700 B29L1100

代理机构：

北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413

代理人：

杨卫萍;刘继富

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-07-16	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 5/30 申请日:20191108
2021-06-29	公开	公开

共 50 条

[1]

光学膜、相位差膜、及它们的制造方法 [P].

熊泽一辉 ;

摺出寺浩成 .

中国专利 :CN113167954A ,2021-07-23

[2]

相位差膜及相位差膜的制造方法 [P].

浅田毅 ;

摺出寺浩成 ;

藤井健作 ;

安祐辅 ;

西冈宽哉 .

中国专利 :CN111868583B ,2020-10-30

[3]

相位差膜和相位差膜的制造方法 [P].

浅田毅 ;

摺出寺浩成 ;

藤井健作 ;

安祐辅 ;

西冈宽哉 .

中国专利 :CN111886524B ,2020-11-03

[4]

相位差膜及制造方法 [P].

浅田毅 .

中国专利 :CN110651207A ,2020-01-03

[5]

相位差膜及制造方法 [P].

浅田毅 .

中国专利 :CN110709737A ,2020-01-17

[6]

相位差膜及制造方法 [P].

浅田毅 .

中国专利 :CN115629437A ,2023-01-20

[7]

相位差膜、相位差膜的制造方法和偏光板 [P].

峯尾裕 .

中国专利 :CN103472517B ,2013-12-25

[8]

相位差膜及其制造方法 [P].

浅田毅 ;

摺出寺浩成 ;

藤井健作 .

中国专利 :CN110678787B ,2020-01-10

[9]

相位差板及其制造方法、光学膜 [P].

首藤俊介 ;

川本育郎 ;

本村弘则 .

中国专利 :CN100439948C ,2005-03-02

[10]

光学补偿膜和相位差膜 [P].

土井亨 ;

下里伸治 ;

小原直人 .

中国专利 :CN101140334B ,2008-03-12

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