相位差膜及制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201880033974.6

申请日：

2018-05-18

公开(公告)号：

CN110651207A

公开(公告)日：

2020-01-03

发明(设计)人：

浅田毅

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

G02B530

IPC分类号：

B29C4830 C08J518 C08L5302 B29C48305 B29C5502

代理机构：

北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413

代理人：

邵秋雨;刘继富

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-01-03	公开	公开
2020-02-04	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 5/30 申请日:20180518

共 50 条

[1]

相位差膜及相位差膜的制造方法 [P].

浅田毅 ;

摺出寺浩成 ;

藤井健作 ;

安祐辅 ;

西冈宽哉 .

中国专利 :CN111868583B ,2020-10-30

[2]

相位差膜及制造方法 [P].

浅田毅 .

中国专利 :CN110709737A ,2020-01-17

[3]

相位差膜及制造方法 [P].

浅田毅 .

中国专利 :CN115629437A ,2023-01-20

[4]

相位差膜和相位差膜的制造方法 [P].

浅田毅 ;

摺出寺浩成 ;

藤井健作 ;

安祐辅 ;

西冈宽哉 .

中国专利 :CN111886524B ,2020-11-03

[5]

相位差膜及其制造方法 [P].

浅田毅 ;

摺出寺浩成 ;

藤井健作 .

中国专利 :CN110678787B ,2020-01-10

[6]

光学膜、相位差膜、及它们的制造方法 [P].

熊泽一辉 ;

摺出寺浩成 .

中国专利 :CN113167954A ,2021-07-23

[7]

光学膜、相位差膜及它们的制造方法 [P].

熊泽一辉 ;

摺出寺浩成 .

中国专利 :CN113056685A ,2021-06-29

[8]

相位差膜 [P].

上平茂生 ;

师冈直之 ;

中山贵文 .

中国专利 :CN110799870B ,2020-02-14

[9]

相位差膜 [P].

新田英昭 ;

松田裕生 ;

松村俊一 .

中国专利 :CN100432716C ,2007-08-22

[10]

树脂组合物、相位差膜、相位差膜的制造方法、及长条的圆偏振片 [P].

波多野拓 .

中国专利 :CN103282427A ,2013-09-04

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