相移光刻掩模的设计和布局

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200910171747.2

申请日：

2002-06-07

公开(公告)号：

CN101726988B

公开(公告)日：

2010-06-09

发明(设计)人：

米歇尔·L·科特克里斯托夫·皮拉特

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

G03F130

IPC分类号：

G03F720

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

李芳华

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-06-09	公开	公开
2017-07-21	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101736160810 IPC(主分类):G03F 1/30 专利号:ZL2009101717472 申请日:20020607 授权公告日:20120905 终止日期:20160607
2012-09-05	授权	授权
2010-08-11	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101004500356 IPC(主分类):G03F 1/00 专利申请号:2009101717472 申请日:20020607

共 50 条

[1]

相移光刻掩模的设计和布局 [P].

米歇尔·L·科特 ;

克里斯托夫·皮拉特 .

中国专利 :CN1524199A ,2004-08-25

[2]

相移光刻掩模的曝光控制 [P].

克里斯托夫·皮拉特 ;

米歇尔·L·科特 .

中国专利 :CN1282032C ,2004-07-21

[3]

用于相移光刻掩模的光学接近校正 [P].

克里斯托夫·皮拉特 ;

米歇尔·L·科特 .

中国专利 :CN1303474C ,2005-05-25

[4]

用于开发光刻掩模的布局的骨架表示 [P].

T·C·塞西尔 ;

D·W·托马斯 .

美国专利 :CN115004107B ,2025-01-07

[5]

用于开发光刻掩模的布局的骨架表示 [P].

T·C·塞西尔 ;

D·W·托马斯 .

中国专利 :CN115004107A ,2022-09-02

[6]

一种用于X射线光刻的相移掩模 [P].

冯伯儒 ;

张锦 ;

侯德胜 .

中国专利 :CN2432610Y ,2001-05-30

[7]

无掩模光刻的剥离方法 [P].

王宏钧 ;

林子钦 ;

郑年富 ;

陈政宏 ;

黄文俊 ;

刘如淦 .

中国专利 :CN102983068B ,2013-03-20

[8]

光刻掩模位相冲突的解决方法 [P].

克里斯托夫·皮拉特 ;

米歇尔·L·科特 .

中国专利 :CN100535745C ,2005-07-06

[9]

为掩模设计执行数据准备的系统和方法 [P].

陈鹏任 ;

黄健朝 ;

涂志强 .

中国专利 :CN101295325B ,2008-10-29

[10]

布局设计的拓扑模拟 [P].

高田寄夫 .

美国专利 :CN116227405B ,2025-09-19

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