水平传感器、光刻设备以及器件制作方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200510134128.8

申请日：

2005-12-26

公开(公告)号：

CN100549833C

公开(公告)日：

2006-07-05

发明(设计)人：

A·J·A·布鲁恩斯马 F·斯塔尔斯 R·J·凡威杰克 S·尼蒂阿洛夫

申请人：

申请人地址：

荷兰维尔德霍芬

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

H01L21027

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

王波波

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2006-07-05	公开	公开
2011-03-16	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101056297778 IPC(主分类):G03F 7/20 专利号:ZL2005101341288 申请日:20051226 授权公告日:20091014 终止日期:20100126
2009-10-14	授权	授权
2008-02-13	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

用于光刻设备的水平传感器布置、光刻设备及器件制造方法 [P].

S·G·J·玛蒂吉森 ;

A·J·登博夫 .

中国专利 :CN102967998A ,2013-03-13

[2]

传感器、光刻设备以及器件制造方法 [P].

T·劳伦特 ;

J·H·W·雅各布斯 ;

H·考克 ;

Y·范德维基维尔 ;

J·范德瓦尔 ;

B·克拿伦 ;

R·J·伍德 ;

J·S·C·维斯特尔拉肯 ;

H·范德里基德特 ;

E·库伊克尔 ;

W·M·J·赫肯斯-墨腾斯 ;

Y·B·Y·特莱特 .

中国专利 :CN104321702B ,2015-01-28

[3]

传感器、光刻设备以及器件制造方法 [P].

T·劳伦特 ;

J·H·W·雅各布斯 ;

H·考克 ;

Y·范德维基维尔 ;

J·范德瓦尔 ;

B·克拿伦 ;

R·J·伍德 ;

J·S·C·维斯特尔拉肯 ;

H·范德里基德特 ;

E·库伊克尔 ;

W·M·J·赫肯斯-墨腾斯 ;

Y·B·Y·特莱特 .

中国专利 :CN106873312B ,2019-09-06

[4]

水平传感器和光刻设备 [P].

S·R·胡伊斯曼 ;

M·P·瑞因德斯 .

中国专利 :CN111936937A ,2020-11-13

[5]

水平传感器和包括水平传感器的光刻设备 [P].

R·H·M·J·布洛克斯 ;

J·G·C·昆尼 ;

O·扎尔 ;

J·H·里昂 ;

S·斯里瓦斯塔瓦 .

中国专利 :CN112771451A ,2021-05-07

[6]

水平传感器和包括水平传感器的光刻设备 [P].

R·H·M·J·布洛克斯 ;

J·G·C·昆尼 ;

O·扎尔 ;

J·H·里昂 ;

S·斯里瓦斯塔瓦 .

:CN112771451B ,2024-05-07

[7]

用于光刻设备的水平传感器布置和器件制造方法 [P].

A·J·登鲍埃夫 ;

J·P·H·本斯库普 ;

R·布林克霍夫 ;

L·J·曼彻特 .

中国专利 :CN101840166B ,2010-09-22

[8]

光刻设备、传感器以及方法 [P].

F·伊万格利斯塔 ;

D·克伦德 ;

C·德布瑞吉恩 .

中国专利 :CN104204951B ,2014-12-10

[9]

超声波传感器以及制作方法 [P].

张楠 .

中国专利 :CN114543715A ,2022-05-27

[10]

传感器、台以及光刻设备 [P].

H·W·M·范布尔 ;

J·T·布洛克惠斯基 ;

V·普洛斯因特索夫 ;

S·范德克拉夫 ;

N·V·德兹沃姆基娜 .

中国专利 :CN101957561B ,2011-01-26

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