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水平传感器和光刻设备

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201980024981.4
申请日：
2019-03-13
公开(公告)号：
CN111936937A
公开(公告)日：
2020-11-13
发明(设计)人：
S·R·胡伊斯曼 M·P·瑞因德斯
申请人：
申请人地址：
荷兰维德霍温
IPC主分类号：
G03F900
IPC分类号：
代理机构：
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人：
王益
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2020-11-13 公开 公开
2021-04-27 实质审查的生效 实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 9/00 申请日:20190313
共 50 条
[1]
水平传感器和包括水平传感器的光刻设备 [P]. 
R·H·M·J·布洛克斯 ;
J·G·C·昆尼 ;
O·扎尔 ;
J·H·里昂 ;
S·斯里瓦斯塔瓦 .
中国专利 :CN112771451A ,2021-05-07
[2]
水平传感器和包括水平传感器的光刻设备 [P]. 
R·H·M·J·布洛克斯 ;
J·G·C·昆尼 ;
O·扎尔 ;
J·H·里昂 ;
S·斯里瓦斯塔瓦 .
:CN112771451B ,2024-05-07
[3]
位置传感器和光刻设备 [P]. 
R·A·C·M·比伦斯 ;
A·F·J·德格鲁特 ;
J·P·M·B·沃麦尤伦 .
中国专利 :CN102314092A ,2012-01-11
[4]
光刻设备对准传感器和方法 [P]. 
S·G·J·马斯杰森 ;
A·J·登博夫 ;
N·潘迪 ;
P·A·J·廷尼曼斯 ;
S·M·怀特 ;
K·S·E·埃克玛 .
中国专利 :CN107924146A ,2018-04-17
[5]
用于光刻装置的水平传感器 [P]. 
P·A·A·特尼森 ;
P·J·M·布鲁德巴克 ;
R·M·G·J·奎恩斯 .
中国专利 :CN100555086C ,2004-08-04
[6]
传感器系统、衬底输送系统和光刻设备 [P]. 
J·洛夫 ;
J·考夫曼 ;
M·D·N·彼得斯 ;
P·T·吕特格尔斯 ;
M·H·W·斯道派欧 ;
G·范德艾克曼 ;
H·K·范德舒特 ;
R·维瑟 .
中国专利 :CN106104382B ,2016-11-09
[7]
用于光刻设备的水平传感器布置和器件制造方法 [P]. 
A·J·登鲍埃夫 ;
J·P·H·本斯库普 ;
R·布林克霍夫 ;
L·J·曼彻特 .
中国专利 :CN101840166B ,2010-09-22
[8]
水平传感器、光刻设备以及器件制作方法 [P]. 
A·J·A·布鲁恩斯马 ;
F·斯塔尔斯 ;
R·J·凡威杰克 ;
S·尼蒂阿洛夫 .
中国专利 :CN100549833C ,2006-07-05
[9]
用于光刻设备的水平传感器布置、光刻设备及器件制造方法 [P]. 
S·G·J·玛蒂吉森 ;
A·J·登博夫 .
中国专利 :CN102967998A ,2013-03-13
[10]
光刻设备、传感器以及方法 [P]. 
F·伊万格利斯塔 ;
D·克伦德 ;
C·德布瑞吉恩 .
中国专利 :CN104204951B ,2014-12-10
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