用于光刻装置的水平传感器

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200410005823.X

申请日：

2004-01-13

公开(公告)号：

CN100555086C

公开(公告)日：

2004-08-04

发明(设计)人：

P·A·A·特尼森 P·J·M·布鲁德巴克 R·M·G·J·奎恩斯

申请人：

申请人地址：

荷兰维尔德霍芬

IPC主分类号：

G03F900

IPC分类号：

G03F720

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

王波波

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2005-10-05	实质审查的生效	实质审查的生效
2009-10-28	授权	授权
2004-08-04	公开	公开

共 50 条

[1]

水平传感器和光刻设备 [P].

S·R·胡伊斯曼 ;

M·P·瑞因德斯 .

中国专利 :CN111936937A ,2020-11-13

[2]

水平传感器和包括水平传感器的光刻设备 [P].

R·H·M·J·布洛克斯 ;

J·G·C·昆尼 ;

O·扎尔 ;

J·H·里昂 ;

S·斯里瓦斯塔瓦 .

中国专利 :CN112771451A ,2021-05-07

[3]

水平传感器和包括水平传感器的光刻设备 [P].

R·H·M·J·布洛克斯 ;

J·G·C·昆尼 ;

O·扎尔 ;

J·H·里昂 ;

S·斯里瓦斯塔瓦 .

:CN112771451B ,2024-05-07

[4]

用于光刻的传感器系统 [P].

H·科克 ;

R·J·沃格德 .

中国专利 :CN104823112A ,2015-08-05

[5]

水平传感器 [P].

张城豪 ;

裵祥佑 ;

徐敏焕 ;

成长云 ;

大久保彰律 ;

李昇祐 ;

李贞彻 ;

郑在晃 ;

洪尚俊 .

韩国专利 :CN117870550A ,2024-04-12

[6]

用于光刻设备的水平传感器布置、光刻设备及器件制造方法 [P].

S·G·J·玛蒂吉森 ;

A·J·登博夫 .

中国专利 :CN102967998A ,2013-03-13

[7]

用于光刻设备的水平传感器布置和器件制造方法 [P].

A·J·登鲍埃夫 ;

J·P·H·本斯库普 ;

R·布林克霍夫 ;

L·J·曼彻特 .

中国专利 :CN101840166B ,2010-09-22

[8]

用于光刻测量的传感器装置 [P].

A·波洛 .

中国专利 :CN112292641A ,2021-01-29

[9]

用于光刻测量的传感器装置 [P].

A·波洛 .

:CN112292641B ,2024-05-24

[10]

用于光刻装置中的传感器 [P].

H·V·科克 ;

M·A·范德卡尔霍夫 ;

B·克鲁辛加 ;

T·F·森格斯 ;

B·默斯特 ;

M·A·M·哈斯特 ;

P·W·韦斯布罗特 ;

M·H·G·W·J·舒伦克 ;

T·哈森多尔夫 .

中国专利 :CN1862382A ,2006-11-15

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