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用于光刻的传感器系统
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201380059143.3
申请日
:
2013-09-10
公开(公告)号
:
CN104823112A
公开(公告)日
:
2015-08-05
发明(设计)人
:
H·科克
R·J·沃格德
申请人
:
申请人地址
:
荷兰维德霍温
IPC主分类号
:
G03F720
IPC分类号
:
G03F900
代理机构
:
北京市金杜律师事务所 11256
代理人
:
王茂华;张宁
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2015-09-02
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101623402557 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2013800591433 申请日:20130910
2015-08-05
公开
公开
2018-06-29
授权
授权
共 50 条
[1]
用于光刻装置的水平传感器
[P].
P·A·A·特尼森
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P·A·A·特尼森
;
P·J·M·布鲁德巴克
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P·J·M·布鲁德巴克
;
R·M·G·J·奎恩斯
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R·M·G·J·奎恩斯
.
中国专利
:CN100555086C
,2004-08-04
[2]
用于光刻系统的传感器以及用于光刻参数测量的传感器控制方法
[P].
李赣
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0
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机构:
上海微电子装备(集团)股份有限公司
上海微电子装备(集团)股份有限公司
李赣
.
中国专利
:CN117956743A
,2024-04-30
[3]
传感器系统、衬底输送系统和光刻设备
[P].
J·洛夫
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J·洛夫
;
J·考夫曼
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J·考夫曼
;
M·D·N·彼得斯
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M·D·N·彼得斯
;
P·T·吕特格尔斯
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P·T·吕特格尔斯
;
M·H·W·斯道派欧
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M·H·W·斯道派欧
;
G·范德艾克曼
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G·范德艾克曼
;
H·K·范德舒特
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H·K·范德舒特
;
R·维瑟
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R·维瑟
.
中国专利
:CN106104382B
,2016-11-09
[4]
用于光刻的图像传感器
[P].
F·斯塔尔斯
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F·斯塔尔斯
;
J·洛夫
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J·洛夫
;
E·R·鲁普斯卓
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E·R·鲁普斯卓
;
W·T·苔尔
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W·T·苔尔
;
B·莫埃斯特
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B·莫埃斯特
.
中国专利
:CN101720449A
,2010-06-02
[5]
用于图像传感器的光刻
[P].
佟璐
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佟璐
;
陈世杰
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陈世杰
;
黄晓橹
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黄晓橹
.
中国专利
:CN109585482A
,2019-04-05
[6]
传感器系统、传感器模块和传感器系统的安装方法
[P].
太田尚城
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太田尚城
;
沟口义之
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沟口义之
.
中国专利
:CN110007254B
,2019-07-12
[7]
传感器系统、用于运行传感器系统的方法
[P].
F·迪亚齐
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F·迪亚齐
;
R·哈利柳林
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R·哈利柳林
;
A·维斯孔蒂
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A·维斯孔蒂
.
中国专利
:CN114234950A
,2022-03-25
[8]
传感器系统、用于运行传感器系统的方法
[P].
W·盖格尔
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W·盖格尔
;
I·卡达尔-内梅特
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I·卡达尔-内梅特
;
J·克拉森
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J·克拉森
.
中国专利
:CN114076830A
,2022-02-22
[9]
传感器系统以及用于传感器系统的天线
[P].
J.L.怀特利
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J.L.怀特利
;
B.L.谢克曼
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B.L.谢克曼
;
高宇轩
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高宇轩
;
R.哈亚施达
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R.哈亚施达
;
李瑢宰
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李瑢宰
.
中国专利
:CN103471632A
,2013-12-25
[10]
用于配电设备的传感器系统
[P].
阿图斯·波特榭
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阿图斯·波特榭
;
马库斯·迪纳
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马库斯·迪纳
;
托马斯·黑克勒
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托马斯·黑克勒
;
亚历山大·海因
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亚历山大·海因
.
中国专利
:CN107544002B
,2018-01-05
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