位置传感器和光刻设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110147873.1

申请日：

2011-05-25

公开(公告)号：

CN102314092A

公开(公告)日：

2012-01-11

发明(设计)人：

R·A·C·M·比伦斯 A·F·J·德格鲁特 J·P·M·B·沃麦尤伦

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G01B1100

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

吴敬莲

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-10-08	授权	授权
2012-01-11	公开	公开
2012-03-07	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101194114307 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2011101478731 申请日:20110525
2019-05-10	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20110525 授权公告日:20141008 终止日期:20180525

共 50 条

[1]

水平传感器和光刻设备 [P].

S·R·胡伊斯曼 ;

M·P·瑞因德斯 .

中国专利 :CN111936937A ,2020-11-13

[2]

光刻设备对准传感器和方法 [P].

S·G·J·马斯杰森 ;

A·J·登博夫 ;

N·潘迪 ;

P·A·J·廷尼曼斯 ;

S·M·怀特 ;

K·S·E·埃克玛 .

中国专利 :CN107924146A ,2018-04-17

[3]

位置传感器、光刻设备和用于制造器件的方法 [P].

S·R·休斯曼 ;

S·G·J·马斯杰森 ;

S·A·戈登 ;

D·阿克布鲁特 ;

A·波洛 .

中国专利 :CN109643072B ,2019-04-16

[4]

传感器系统、衬底输送系统和光刻设备 [P].

J·洛夫 ;

J·考夫曼 ;

M·D·N·彼得斯 ;

P·T·吕特格尔斯 ;

M·H·W·斯道派欧 ;

G·范德艾克曼 ;

H·K·范德舒特 ;

R·维瑟 .

中国专利 :CN106104382B ,2016-11-09

[5]

光学聚焦传感器、检查设备以及光刻设备 [P].

威廉·卡夫 ;

罗纳德·弗朗西斯克斯·赫尔曼·胡格斯 .

中国专利 :CN101520608A ,2009-09-02

[6]

光刻设备、传感器以及方法 [P].

F·伊万格利斯塔 ;

D·克伦德 ;

C·德布瑞吉恩 .

中国专利 :CN104204951B ,2014-12-10

[7]

传感器、台以及光刻设备 [P].

H·W·M·范布尔 ;

J·T·布洛克惠斯基 ;

V·普洛斯因特索夫 ;

S·范德克拉夫 ;

N·V·德兹沃姆基娜 .

中国专利 :CN101957561B ,2011-01-26

[8]

具有编码器型位置传感器系统的光刻设备 [P].

皮特·保罗·斯汀贾尔特 ;

威尔赫尔姆斯·约瑟夫斯·鲍克斯 ;

艾米爱尔·尤泽夫·梅勒妮·尤森 ;

埃瑞克·罗埃劳夫·鲁普斯卓 ;

恩格尔伯塔斯·安东尼尔斯·弗朗西斯克斯·范德帕斯克 ;

鲁德·安东尼尔斯·卡萨丽娜·玛丽亚·比伦斯 ;

埃尔伯塔斯·亚得里亚内斯·史密特斯 .

中国专利 :CN101359182A ,2009-02-04

[9]

光刻设备和传感器校准方法 [P].

恩格尔伯塔斯·安东尼斯·弗朗西斯克斯·范德帕斯克 ;

艾米尔·尤泽夫·梅勒妮·尤森 ;

斯蒂芬·格特鲁德·玛丽·亨德瑞克斯 ;

埃瑞克·鲁埃洛夫·鲁普斯卓 ;

雅克布·威尔埃姆·文克 ;

洛德·安东尼斯·安萨丽娜·玛丽安·比伦斯 ;

劳德威杰克·亚历山大·席杰文阿斯 ;

汤姆·范祖特芬 .

中国专利 :CN101303535A ,2008-11-12

[10]

水平传感器和包括水平传感器的光刻设备 [P].

R·H·M·J·布洛克斯 ;

J·G·C·昆尼 ;

O·扎尔 ;

J·H·里昂 ;

S·斯里瓦斯塔瓦 .

中国专利 :CN112771451A ,2021-05-07

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