光学聚焦传感器、检查设备以及光刻设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200810177834.4

申请日：

2008-10-09

公开(公告)号：

CN101520608A

公开(公告)日：

2009-09-02

发明(设计)人：

威廉·卡夫罗纳德·弗朗西斯克斯·赫尔曼·胡格斯

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G01B1100

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

王波波

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-09-02	公开	公开
2009-10-28	实质审查的生效	实质审查的生效
2011-11-09	授权	授权

共 50 条

[1]

光刻设备、传感器以及方法 [P].

F·伊万格利斯塔 ;

D·克伦德 ;

C·德布瑞吉恩 .

中国专利 :CN104204951B ,2014-12-10

[2]

位置传感器和光刻设备 [P].

R·A·C·M·比伦斯 ;

A·F·J·德格鲁特 ;

J·P·M·B·沃麦尤伦 .

中国专利 :CN102314092A ,2012-01-11

[3]

传感器、台以及光刻设备 [P].

H·W·M·范布尔 ;

J·T·布洛克惠斯基 ;

V·普洛斯因特索夫 ;

S·范德克拉夫 ;

N·V·德兹沃姆基娜 .

中国专利 :CN101957561B ,2011-01-26

[4]

水平传感器和光刻设备 [P].

S·R·胡伊斯曼 ;

M·P·瑞因德斯 .

中国专利 :CN111936937A ,2020-11-13

[5]

光刻设备与辐射传感器及辐射传感器制造方法 [P].

海柯·V·柯克 ;

阿里西·J·范德西斯 .

中国专利 :CN101109908A ,2008-01-23

[6]

传感器、光刻设备以及器件制造方法 [P].

T·劳伦特 ;

J·H·W·雅各布斯 ;

H·考克 ;

Y·范德维基维尔 ;

J·范德瓦尔 ;

B·克拿伦 ;

R·J·伍德 ;

J·S·C·维斯特尔拉肯 ;

H·范德里基德特 ;

E·库伊克尔 ;

W·M·J·赫肯斯-墨腾斯 ;

Y·B·Y·特莱特 .

中国专利 :CN104321702B ,2015-01-28

[7]

传感器、光刻设备以及器件制造方法 [P].

T·劳伦特 ;

J·H·W·雅各布斯 ;

H·考克 ;

Y·范德维基维尔 ;

J·范德瓦尔 ;

B·克拿伦 ;

R·J·伍德 ;

J·S·C·维斯特尔拉肯 ;

H·范德里基德特 ;

E·库伊克尔 ;

W·M·J·赫肯斯-墨腾斯 ;

Y·B·Y·特莱特 .

中国专利 :CN106873312B ,2019-09-06

[8]

光学传感器以及图像形成设备 [P].

大场义浩 ;

菅原悟 ;

石井稔浩 ;

星文和 .

中国专利 :CN103221803A ,2013-07-24

[9]

光刻设备对准传感器和方法 [P].

S·G·J·马斯杰森 ;

A·J·登博夫 ;

N·潘迪 ;

P·A·J·廷尼曼斯 ;

S·M·怀特 ;

K·S·E·埃克玛 .

中国专利 :CN107924146A ,2018-04-17

[10]

光刻设备的传感器以及获得光刻设备的测量的方法 [P].

F·J·范豪特 ;

J·A·M·范博梅 ;

P·迪克森 ;

M·克鲁恩 ;

C·A·H·朱弗曼斯 ;

R·M·A·M·范登埃登 .

中国专利 :CN1890608A ,2007-01-03

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