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大口径光学元件二次曝光相位测量装置及测量方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201510054241.9
申请日
:
2015-02-03
公开(公告)号
:
CN104634542B
公开(公告)日
:
2015-05-20
发明(设计)人
:
陶华
潘兴臣
王海燕
刘诚
朱健强
申请人
:
申请人地址
:
201800 上海市嘉定区上海市800-211邮政信箱
IPC主分类号
:
G01M1102
IPC分类号
:
代理机构
:
上海新天专利代理有限公司 31213
代理人
:
张泽纯;张宁展
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2015-06-17
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101613565827 IPC(主分类):G01M 11/02 专利申请号:2015100542419 申请日:20150203
2017-06-13
授权
授权
2015-05-20
公开
公开
共 50 条
[1]
透射型大口径元件相位测量装置和测量方法
[P].
王海燕
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王海燕
;
刘诚
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刘诚
;
潘兴臣
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潘兴臣
;
程君
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程君
;
孙美智
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孙美智
;
朱健强
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朱健强
.
中国专利
:CN103499429A
,2014-01-08
[2]
大口径光学元件动态干涉拼接测量装置及测量方法
[P].
武欣
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武欣
;
于瀛洁
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于瀛洁
;
王伟荣
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王伟荣
;
张小强
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张小强
;
许海峰
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许海峰
;
王驰
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王驰
.
中国专利
:CN104330050B
,2015-02-04
[3]
大口径光学元件透射率和反射率的测量装置和测量方法
[P].
张春香
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张春香
;
朱宝强
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朱宝强
;
唐顺兴
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唐顺兴
;
缪洁
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缪洁
;
高妍琦
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高妍琦
;
惠宏超
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惠宏超
;
郭亚晶
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郭亚晶
.
中国专利
:CN102062678A
,2011-05-18
[4]
基于共聚焦显微原理的大口径光学元件母线轮廓测量方法
[P].
刘俭
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刘俭
;
王宇航
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王宇航
;
牛斌
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牛斌
;
谷康
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谷康
;
谭久彬
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谭久彬
.
中国专利
:CN106705881A
,2017-05-24
[5]
大口径光学元件清洗装置及大口径光学元件的清洗方法
[P].
王震
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王震
;
许乔
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许乔
;
卫耀伟
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卫耀伟
;
王健
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王健
;
李树刚
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李树刚
;
刘民才
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刘民才
;
张飞
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张飞
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唐明
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唐明
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吴倩
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吴倩
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罗晋
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罗晋
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罗振飞
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罗振飞
;
周永勤
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周永勤
;
程建国
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程建国
;
白友民
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白友民
.
中国专利
:CN111330877A
,2020-06-26
[6]
大口径光学元件轮廓的一次拼接测量装置
[P].
郭隐彪
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郭隐彪
;
李欣
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李欣
;
杨旭
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杨旭
;
张艳婷
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张艳婷
;
王振忠
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王振忠
.
中国专利
:CN103822605A
,2014-05-28
[7]
光束相位在线测量装置和测量方法
[P].
潘兴臣
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潘兴臣
;
王海燕
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王海燕
;
程君
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程君
;
刘诚
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刘诚
;
朱健强
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朱健强
.
中国专利
:CN103884436B
,2014-06-25
[8]
大口径光学元件反射率测量系统
[P].
高磊
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高磊
;
龙宇
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龙宇
;
彭琛
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彭琛
;
朱涛
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朱涛
.
中国专利
:CN114486201A
,2022-05-13
[9]
大口径光学成像系统成像质量测量装置及测量方法
[P].
论文数:
引用数:
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机构:
王彦
;
论文数:
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机构:
陈金宝
;
论文数:
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机构:
刘文广
;
论文数:
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机构:
周琼
;
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机构:
张汉伟
;
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机构:
刘鹏飞
;
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机构:
张丹
.
中国专利
:CN118670691A
,2024-09-20
[10]
大口径光学成像系统成像质量测量装置及测量方法
[P].
论文数:
引用数:
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机构:
王彦
;
论文数:
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机构:
陈金宝
;
论文数:
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机构:
刘文广
;
论文数:
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机构:
周琼
;
论文数:
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机构:
张汉伟
;
论文数:
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机构:
刘鹏飞
;
论文数:
引用数:
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机构:
张丹
.
中国专利
:CN118670691B
,2024-11-05
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