抗蚀剂下层膜形成用感光性组合物及抗蚀剂下层膜

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201580065831.X

申请日：

2015-11-10

公开(公告)号：

CN107003612B

公开(公告)日：

2017-08-01

发明(设计)人：

今田知之

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G03F711

IPC分类号：

C07C3916 C08G800 H01L21027

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;李茂家

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-08-25	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101743987740 IPC(主分类):G03F 7/11 专利申请号:201580065831X 申请日:20151110
2020-11-06	授权	授权
2017-08-01	公开	公开

共 50 条

[1]

感光性树脂组合物、抗蚀剂膜、抗蚀剂下层膜及抗蚀剂永久膜 [P].

长田裕仁 ;

伊部武史 .

日本专利 :CN118672058A ,2024-09-20

[2]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

境田康志 ;

高濑显司 ;

岸冈高广 ;

坂本力丸 .

中国专利 :CN109073977B ,2018-12-21

[3]

正型感光性树脂组合物、感光性膜、抗蚀剂膜、抗蚀剂下层膜及抗蚀剂永久膜 [P].

长田裕仁 ;

伊部武史 ;

小关裕美子 .

日本专利 :CN120821152A ,2025-10-21

[4]

正型感光性树脂组合物、感光性膜、抗蚀剂膜、抗蚀剂下层膜及抗蚀剂永久膜 [P].

长田裕仁 ;

伊部武史 ;

小关裕美子 .

日本专利 :CN120802561A ,2025-10-17

[5]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

光武祐希 ;

德永光 .

日本专利 :CN120153321A ,2025-06-13

[6]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

绪方裕斗 ;

臼井友辉 ;

远藤雅久 ;

岸冈高广 .

中国专利 :CN110869852A ,2020-03-06

[7]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

德永光 ;

光武祐希 .

日本专利 :CN120712524A ,2025-09-26

[8]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

西田登喜雄 ;

坂本力丸 .

中国专利 :CN109690405B ,2019-04-26

[9]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

绪方裕斗 ;

广原知忠 ;

西卷裕和 ;

中岛诚 .

中国专利 :CN113906077A ,2022-01-07

[10]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

绪方裕斗 ;

广原知忠 ;

西卷裕和 ;

中岛诚 .

日本专利 :CN113906077B ,2024-08-13

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