一种大面积纳米缝电极阵列并行制造的方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201210563309.2
申请日
2012-12-21
公开(公告)号
CN103030098B
公开(公告)日
2013-04-10
发明(设计)人
王文君 梅雪松 刘斌 王恪典 姜歌东 郑卜祥
申请人
申请人地址
710049 陕西省西安市碑林区咸宁西路28号
IPC主分类号
B81C100
IPC分类号
B82Y4000
代理机构
西安智大知识产权代理事务所 61215
代理人
贺建斌
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
一种大面积纳米缝电极并行制造方法 [P]. 
邵金友 ;
丁玉成 ;
缪林林 ;
李欣 ;
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中国专利 :CN102328903B ,2012-01-25
[2]
室温下Pd薄膜大面积纳米缝阵列并行制造方法 [P]. 
邵金友 ;
丁玉成 ;
刘嘉伟 ;
李智钢 ;
田洪淼 ;
李祥明 .
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[3]
大面积纳米结构阵列的制备方法 [P]. 
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何增华 ;
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[4]
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[5]
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曹国威 ;
周杰 ;
王俊 .
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[6]
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[7]
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[8]
大面积制备银纳米线透明电极的方法及银纳米线透明电极 [P]. 
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[9]
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[10]
一种制造超大面积纳米压印无缝图案的装置 [P]. 
谷岩 ;
周岩 ;
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李景鹏 ;
张群 ;
孙慧岩 ;
郑恭承 ;
易正发 ;
冯开拓 ;
曹东旭 ;
刘阳 ;
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中国专利 :CN207301617U ,2018-05-01