脉冲电化学抛光方法及装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201280073426.9

申请日：

2012-05-24

公开(公告)号：

CN104471690B

公开(公告)日：

2015-03-25

发明(设计)人：

王坚金一诺王俊王晖

申请人：

申请人地址：

201203 上海张江高科技园区蔡伦路1690号第4幢

IPC主分类号：

H01L21321

IPC分类号：

B23H302 B24B5702 C25F316

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

陆嘉

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-04-19	授权	授权
2015-03-25	公开	公开
2020-03-27	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01L 21/321 变更事项:专利权人变更前:盛美半导体设备(上海)有限公司变更后:盛美半导体设备(上海)股份有限公司变更事项:地址变更前:201203 上海张江高科技园区蔡伦路1690号第4幢变更后:201203 上海市浦东新区自由贸易试验区蔡伦路1690号第4幢
2015-05-20	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101610549367 IPC(主分类):H01L 21/321 专利申请号:2012800734269 申请日:20120524

共 50 条

[1]

电化学抛光装置 [P].

庄维伟 ;

高永超 ;

程好 ;

杨淑平 ;

蔡渊 ;

贺昱旻 .

中国专利 :CN203174217U ,2013-09-04

[2]

电化学抛光装置 [P].

向城 ;

刁宇新 ;

叶知春 .

中国专利 :CN217839194U ,2022-11-18

[3]

电化学抛光装置 [P].

于丽 .

中国专利 :CN216738622U ,2022-06-14

[4]

电化学抛光装置及方法 [P].

金一诺 ;

王坚 ;

王晖 .

中国专利 :CN104862772A ,2015-08-26

[5]

电化学抛光装置和方法 [P].

庄维伟 ;

高永超 ;

程好 ;

杨淑平 ;

蔡渊 ;

贺昱旻 .

中国专利 :CN104032366A ,2014-09-10

[6]

新型电化学抛光装置 [P].

贾照伟 ;

王坚 ;

王晖 .

中国专利 :CN104894634A ,2015-09-09

[7]

电化学抛光装置、罐体的电化学抛光方法和罐体的制备方法 [P].

于丽 .

中国专利 :CN113832531A ,2021-12-24

[8]

一种电化学抛光方法与电化学抛光装置 [P].

邓辉 .

中国专利 :CN107488872B ,2017-12-19

[9]

电化学抛光装置及其抛光方法 [P].

姚昊 ;

姚斌 .

中国专利 :CN120776431A ,2025-10-14

[10]

支架电化学抛光装置 [P].

蔡蒙 ;

梅森 ;

沈丹鸿 .

中国专利 :CN223226221U ,2025-08-15

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