光掩模坯

被引：0

申请号：

CN202210025028.5

申请日：

2016-08-31

公开(公告)号：

CN114326284A

公开(公告)日：

2022-04-12

发明(设计)人：

笹本纮平稻月判臣

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

G03F126

IPC分类号：

G03F132

代理机构：

中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038

代理人：

何杨

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-04-12	公开	公开
2022-04-29	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/26 申请日:20160831

共 50 条

[1]

光掩模坯 [P].

笹本纮平 .

中国专利 :CN106502041A ,2017-03-15

[2]

光掩模坯 [P].

笹本纮平 ;

稻月判臣 .

中国专利 :CN114326285A ,2022-04-12

[3]

光掩模坯 [P].

笹本纮平 ;

稻月判臣 .

中国专利 :CN106502043A ,2017-03-15

[4]

光掩模坯 [P].

笹本纮平 ;

稻月判臣 .

中国专利 :CN114924460A ,2022-08-19

[5]

光掩模坯、光掩模及其制作方法 [P].

吉川博树 ;

洼田宽 ;

木名濑良纪 ;

冈崎智 ;

丸山保 ;

原口崇 ;

岩片政秀 ;

福岛祐一 ;

佐贺匡 .

中国专利 :CN102654730A ,2012-09-05

[6]

光掩模坯、光掩模及其制作方法 [P].

吉川博树 ;

洼田宽 ;

木名濑良纪 ;

冈崎智 ;

丸山保 ;

原口崇 ;

岩片政秀 ;

福岛祐一 ;

佐贺匡 .

中国专利 :CN103809369B ,2014-05-21

[7]

光掩模坯、光掩模及其制作方法 [P].

吉川博树 ;

洼田宽 ;

木名濑良纪 ;

冈崎智 ;

丸山保 ;

原口崇 ;

岩片政秀 ;

福岛祐一 ;

佐贺匡 .

中国专利 :CN1900819A ,2007-01-24

[8]

光掩模坯、光掩模以及光掩模的制造方法 [P].

松井一晃 ;

小岛洋介 .

日本专利 :CN118401890A ,2024-07-26

[9]

光掩模坯、制备方法和光掩模 [P].

深谷创一 ;

五十岚慎一 ;

吉井崇 .

中国专利 :CN106547167A ,2017-03-29

[10]

衰减相移掩模坯体和光掩模 [P].

H·贝克 ;

U·布特格赖特 ;

G·赫斯 ;

O·格茨伯格 ;

F·施密德特 ;

F·佐贝尔 ;

M·伦诺 .

中国专利 :CN1846171A ,2006-10-11

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