溅镀沉积期间的颗粒减少

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201780083045.1

申请日：

2017-11-09

公开(公告)号：

CN110402301B

公开(公告)日：

2019-11-01

发明(设计)人：

詹姆斯·格雷戈里·库伊拉德明煌·黄

申请人：

申请人地址：

美国纽约

IPC主分类号：

C23C1450

IPC分类号：

C23C1456 C03B3520 C03C1700 H01L2167 H01L2168

代理机构：

北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006

代理人：

徐金国;吴启超

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-11-26	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/50 申请日:20171109
2022-07-29	授权	授权
2019-11-01	公开	公开

共 50 条

[1]

黄宇庆 .

中国专利 :CN102747331A ,2012-10-24

[2]

一种溅镀装置及溅镀系统 [P].

苏彦荧 .

中国专利 :CN107365968A ,2017-11-21

[3]

减少镀膜沉积的夹钳 [P].

陈清炜 ;

吴烱隆 .

中国专利 :CN101235481A ,2008-08-06

[4]

在晶片解除卡紧期间减少晶片上颗粒数量的设备和方法 [P].

赵尚俊 ;

姜肖恩 ;

汤姆·崔 ;

韩太竣 .

中国专利 :CN101711425A ,2010-05-19

[5]

在晶片解除卡紧期间减少晶片上颗粒数量的设备和方法 [P].

赵尚俊 ;

姜肖恩 ;

汤姆·崔 ;

韩太竣 .

中国专利 :CN103762193A ,2014-04-30

[6]

玻璃溅镀生产线用缓冲检测装置 [P].

张金奎 ;

孙宜华 ;

吕鑫 ;

郑滔 ;

许建国 ;

周林灿 ;

黄俊波 .

中国专利 :CN213103279U ,2021-05-04

[7]

用于溅射腔室的靶材组件、溅射装置以及溅镀方法 [P].

柴立 ;

张正义 ;

陈一翔 .

中国专利 :CN103966562B ,2014-08-06

[8]

电致变色装置制作期间的颗粒去除 [P].

罗伯特·罗兹比克基 .

中国专利 :CN106462024A ,2017-02-22

[9]

电致变色装置制作期间的颗粒去除 [P].

罗伯特·罗兹比克基 .

中国专利 :CN114706252A ,2022-07-05

[10]

镀敷皮膜和镀敷皮膜的制造方法 [P].

佃真优 ;

长尾敏光 ;

片山顺一 ;

岛田和哉 ;

速水雅仁 ;

坂田俊彦 ;

福秀平 ;

广冈飞鸟 .

日本专利 :CN116615575B ,2024-04-30

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