变倍光学系统和具有该变倍光学系统的摄像装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201710216965.8

申请日：

2017-04-05

公开(公告)号：

CN107272172A

公开(公告)日：

2017-10-20

发明(设计)人：

河村一辉

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G02B15173

IPC分类号：

代理机构：

北京三友知识产权代理有限公司 11127

代理人：

李辉;于英慧

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-11-17	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 15/173 申请日:20170405
2017-10-20	公开	公开
2020-06-26	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G02B 15/173 申请公布日:20171020

共 50 条

[1]

变倍光学系统和具有该变倍光学系统的摄像装置 [P].

藤仓崇 ;

左部校之 ;

矢内哲也 .

中国专利 :CN110095855B ,2019-08-06

[2]

变倍光学系统和具有该变倍光学系统的摄像装置 [P].

河村一辉 ;

中川孝司 ;

今村雅弘 .

中国专利 :CN107272170A ,2017-10-20

[3]

变倍光学系统和具有该变倍光学系统的摄像装置 [P].

藤仓崇 .

中国专利 :CN109597190B ,2019-04-09

[4]

变倍光学系统和具有该变倍光学系统的摄像装置 [P].

藤仓崇 ;

膳裕记 ;

左部校之 ;

矢内哲也 .

中国专利 :CN108627959A ,2018-10-09

[5]

变倍光学系统、具有该变倍光学系统的光学设备及变倍光学系统的变倍方法 [P].

伊藤智希 .

中国专利 :CN102067006B ,2011-05-18

[6]

变倍光学系统、具有该变倍光学系统的光学器件，和用于制造变倍光学系统的方法 [P].

上原健 ;

铃木刚司 .

中国专利 :CN104583837A ,2015-04-29

[7]

变倍光学系统、光学装置、摄像装置、变倍光学系统的制造方法 [P].

町田幸介 .

中国专利 :CN108474928A ,2018-08-31

[8]

光学系统、摄像装置及变倍光学系统 [P].

芝山敦史 .

中国专利 :CN110456493A ,2019-11-15

[9]

变倍光学系统、摄像装置以及变倍光学系统的制造方法 [P].

伊藤智希 ;

山本浩史 .

中国专利 :CN106133578A ,2016-11-16

[10]

变倍光学系统、具有该变倍光学系统的光学设备及变倍光学系统的制造方法 [P].

山上阳 .

中国专利 :CN101939683A ,2011-01-05

← 1 2 3 4 5 →