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变倍光学系统、光学装置、摄像装置、变倍光学系统的制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201680060991.X
申请日
:
2016-09-16
公开(公告)号
:
CN108474928A
公开(公告)日
:
2018-08-31
发明(设计)人
:
町田幸介
申请人
:
申请人地址
:
日本东京
IPC主分类号
:
G02B1520
IPC分类号
:
代理机构
:
中原信达知识产权代理有限责任公司 11219
代理人
:
高培培;戚传江
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2018-09-25
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 15/20 申请日:20160916
2018-08-31
公开
公开
2021-07-30
授权
授权
共 50 条
[1]
变倍光学系统、光学装置、变倍光学系统的制造方法
[P].
町田幸介
论文数:
0
引用数:
0
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0
町田幸介
;
铃木刚司
论文数:
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铃木刚司
;
上原健
论文数:
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引用数:
0
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上原健
.
中国专利
:CN107850762B
,2018-03-27
[2]
变倍光学系统、光学装置、变倍光学系统的制造方法
[P].
伊藤智希
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0
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0
伊藤智希
.
中国专利
:CN107076969A
,2017-08-18
[3]
变倍光学系统、光学装置、摄像装置、变倍光学系统的制造方法
[P].
町田幸介
论文数:
0
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0
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0
町田幸介
.
中国专利
:CN108139574A
,2018-06-08
[4]
变倍光学系统、光学装置、摄像装置、变倍光学系统的制造方法
[P].
町田幸介
论文数:
0
引用数:
0
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0
町田幸介
.
中国专利
:CN108139575A
,2018-06-08
[5]
变倍光学系统、光学装置、摄像装置、变倍光学系统的制造方法
[P].
町田幸介
论文数:
0
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0
町田幸介
.
中国专利
:CN108139573A
,2018-06-08
[6]
变倍光学系统、光学装置、变倍光学系统的制造方法
[P].
伊藤智希
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伊藤智希
.
中国专利
:CN114895444A
,2022-08-12
[7]
变倍光学系统、光学装置以及变倍光学系统的制造方法
[P].
町田幸介
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町田幸介
.
中国专利
:CN106687848A
,2017-05-17
[8]
变倍光学系统、光学装置和变倍光学系统的制造方法
[P].
小滨昭彦
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小滨昭彦
;
幸岛知之
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幸岛知之
.
中国专利
:CN104769476A
,2015-07-08
[9]
变倍光学系统、光学装置以及变倍光学系统的制造方法
[P].
町田幸介
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町田幸介
.
中国专利
:CN107076968A
,2017-08-18
[10]
变倍光学系统、光学装置、变倍光学系统的制造方法
[P].
山本浩史
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山本浩史
;
松尾拓
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松尾拓
;
小滨昭彦
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小滨昭彦
;
内田健介
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内田健介
.
中国专利
:CN107209349A
,2017-09-26
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