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变倍光学系统、光学装置、摄像装置、变倍光学系统的制造方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201680060992.4
申请日：
2016-09-16
公开(公告)号：
CN108139574A
公开(公告)日：
2018-06-08
发明(设计)人：
町田幸介
申请人：
申请人地址：
日本东京
IPC主分类号：
G02B1520
IPC分类号：
代理机构：
中原信达知识产权代理有限责任公司 11219
代理人：
高培培;戚传江
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2020-05-26 | 授权 | 授权 |
| 2018-07-03 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 15/20 申请日:20160916 |
| 2018-06-08 | 公开 | 公开 |