一种基于S,S‑二氧‑二苯并噻吩单元的强双光子吸收共轭聚合物及其制备方法与应用

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201710765101.1
申请日
2017-08-30
公开(公告)号
CN107540823A
公开(公告)日
2018-01-05
发明(设计)人
应磊 胡黎文 郭婷 杨伟 彭俊彪 曹镛
申请人
申请人地址
510640 广东省广州市天河区五山路381号
IPC主分类号
C08G6112
IPC分类号
A61N506 C09K1106
代理机构
广州粤高专利商标代理有限公司 44102
代理人
何淑珍
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
一种基于菲并‑S,S‑二氧‑二苯并噻吩单元的共轭聚合物及其制备方法与应用 [P]. 
应磊 ;
赵森 ;
郭婷 ;
杨伟 ;
彭俊彪 ;
曹镛 .
中国专利 :CN107141452A ,2017-09-08
[2]
一种基于萘并‑8‑S,S‑二氧二苯并噻吩单元的蓝光共轭聚合物及其制备方法与应用 [P]. 
郭婷 ;
赵森 ;
应磊 ;
杨伟 ;
彭俊彪 ;
曹镛 .
中国专利 :CN107298757A ,2017-10-27
[3]
一种具有强双光子效应的含S,S‑二氧‑二苯并噻吩单元的化合物及其制备方法与应用 [P]. 
应磊 ;
胡黎文 ;
郭婷 ;
杨伟 ;
彭俊彪 ;
曹镛 .
中国专利 :CN107602529A ,2018-01-19
[4]
基于萘并‑2,7‑S,S‑二氧二苯并噻吩单元的蓝光共轭聚合物及其制备方法与应用 [P]. 
应磊 ;
赵森 ;
郭婷 ;
杨伟 ;
彭俊彪 ;
曹镛 .
中国专利 :CN107254033A ,2017-10-17
[5]
一种基于芳杂环并‑2‑S,S‑二氧二苯并噻吩单元的共轭聚合物及其制备方法与应用 [P]. 
应磊 ;
赵森 ;
郭婷 ;
杨伟 ;
彭俊彪 ;
曹镛 .
中国专利 :CN106866942A ,2017-06-20
[6]
一种基于芳杂环并‑3‑S,S‑二氧二苯并噻吩单元的共轭聚合物及其制备方法与应用 [P]. 
应磊 ;
赵森 ;
郭婷 ;
杨伟 ;
彭俊彪 ;
曹镛 .
中国专利 :CN106883388A ,2017-06-23
[7]
基于二芳杂环并‑3,7‑S,S‑二氧二苯并噻吩单元的共轭聚合物及其制备方法与应用 [P]. 
应磊 ;
赵森 ;
郭婷 ;
杨伟 ;
彭俊彪 ;
曹镛 .
中国专利 :CN106905513A ,2017-06-30
[8]
基于芳杂环并‑2,8‑S,S‑二氧二苯并噻吩单元的共轭聚合物及其制备方法与应用 [P]. 
应磊 ;
赵森 ;
郭婷 ;
杨伟 ;
彭俊彪 ;
曹镛 .
中国专利 :CN106883387A ,2017-06-23
[9]
含噻吩并噻吩-二苯并噻吩苯并二噻吩的共轭聚合物及其制备方法与应用 [P]. 
周明杰 ;
管榕 ;
李满园 ;
黄佳乐 ;
黎乃元 .
中国专利 :CN103936969A ,2014-07-23
[10]
含S,S-二氧-二苯并噻吩衍生物单元的聚合物及其制备方法与应用 [P]. 
应磊 ;
彭沣 ;
钟知鸣 ;
黄飞 ;
曹镛 .
中国专利 :CN110776622A ,2020-02-11