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一种基于S,S‑二氧‑二苯并噻吩单元的强双光子吸收共轭聚合物及其制备方法与应用
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201710765101.1
申请日
:
2017-08-30
公开(公告)号
:
CN107540823A
公开(公告)日
:
2018-01-05
发明(设计)人
:
应磊
胡黎文
郭婷
杨伟
彭俊彪
曹镛
申请人
:
申请人地址
:
510640 广东省广州市天河区五山路381号
IPC主分类号
:
C08G6112
IPC分类号
:
A61N506
C09K1106
代理机构
:
广州粤高专利商标代理有限公司 44102
代理人
:
何淑珍
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2018-01-05
公开
公开
2018-01-30
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C08G 61/12 申请日:20170830
2020-09-25
发明专利申请公布后的驳回
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C08G 61/12 申请公布日:20180105
共 50 条
[1]
一种基于菲并‑S,S‑二氧‑二苯并噻吩单元的共轭聚合物及其制备方法与应用
[P].
应磊
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应磊
;
赵森
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赵森
;
郭婷
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郭婷
;
杨伟
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杨伟
;
彭俊彪
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彭俊彪
;
曹镛
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曹镛
.
中国专利
:CN107141452A
,2017-09-08
[2]
一种基于萘并‑8‑S,S‑二氧二苯并噻吩单元的蓝光共轭聚合物及其制备方法与应用
[P].
郭婷
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郭婷
;
赵森
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赵森
;
应磊
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应磊
;
杨伟
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杨伟
;
彭俊彪
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彭俊彪
;
曹镛
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曹镛
.
中国专利
:CN107298757A
,2017-10-27
[3]
一种具有强双光子效应的含S,S‑二氧‑二苯并噻吩单元的化合物及其制备方法与应用
[P].
应磊
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应磊
;
胡黎文
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胡黎文
;
郭婷
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郭婷
;
杨伟
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杨伟
;
彭俊彪
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彭俊彪
;
曹镛
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曹镛
.
中国专利
:CN107602529A
,2018-01-19
[4]
基于萘并‑2,7‑S,S‑二氧二苯并噻吩单元的蓝光共轭聚合物及其制备方法与应用
[P].
应磊
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应磊
;
赵森
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赵森
;
郭婷
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郭婷
;
杨伟
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杨伟
;
彭俊彪
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彭俊彪
;
曹镛
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曹镛
.
中国专利
:CN107254033A
,2017-10-17
[5]
一种基于芳杂环并‑2‑S,S‑二氧二苯并噻吩单元的共轭聚合物及其制备方法与应用
[P].
应磊
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应磊
;
赵森
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;
郭婷
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;
杨伟
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杨伟
;
彭俊彪
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彭俊彪
;
曹镛
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曹镛
.
中国专利
:CN106866942A
,2017-06-20
[6]
一种基于芳杂环并‑3‑S,S‑二氧二苯并噻吩单元的共轭聚合物及其制备方法与应用
[P].
应磊
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应磊
;
赵森
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赵森
;
郭婷
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郭婷
;
杨伟
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杨伟
;
彭俊彪
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彭俊彪
;
曹镛
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曹镛
.
中国专利
:CN106883388A
,2017-06-23
[7]
基于二芳杂环并‑3,7‑S,S‑二氧二苯并噻吩单元的共轭聚合物及其制备方法与应用
[P].
应磊
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应磊
;
赵森
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赵森
;
郭婷
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郭婷
;
杨伟
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杨伟
;
彭俊彪
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彭俊彪
;
曹镛
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曹镛
.
中国专利
:CN106905513A
,2017-06-30
[8]
基于芳杂环并‑2,8‑S,S‑二氧二苯并噻吩单元的共轭聚合物及其制备方法与应用
[P].
应磊
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应磊
;
赵森
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赵森
;
郭婷
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郭婷
;
杨伟
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杨伟
;
彭俊彪
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彭俊彪
;
曹镛
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曹镛
.
中国专利
:CN106883387A
,2017-06-23
[9]
含噻吩并噻吩-二苯并噻吩苯并二噻吩的共轭聚合物及其制备方法与应用
[P].
周明杰
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周明杰
;
管榕
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管榕
;
李满园
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李满园
;
黄佳乐
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黄佳乐
;
黎乃元
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黎乃元
.
中国专利
:CN103936969A
,2014-07-23
[10]
含S,S-二氧-二苯并噻吩衍生物单元的聚合物及其制备方法与应用
[P].
应磊
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应磊
;
彭沣
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彭沣
;
钟知鸣
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钟知鸣
;
黄飞
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黄飞
;
曹镛
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曹镛
.
中国专利
:CN110776622A
,2020-02-11
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