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一种具有强双光子效应的含S,S‑二氧‑二苯并噻吩单元的化合物及其制备方法与应用

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201710766064.6
申请日：
2017-08-30
公开(公告)号：
CN107602529A
公开(公告)日：
2018-01-19
发明(设计)人：
应磊 胡黎文 郭婷 杨伟 彭俊彪 曹镛
申请人：
申请人地址：
510640 广东省广州市天河区五山路381号
IPC主分类号：
C07D33376
IPC分类号：
C07D40914 C09K1106 A61K4100 G01N2131 G01N2164
代理机构：
广州粤高专利商标代理有限公司 44102
代理人：
何淑珍
法律状态：
发明专利申请公布后的驳回
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2021-07-16 发明专利申请公布后的驳回 发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C07D 333/76 申请公布日:20180119
2018-01-19 公开 公开
2018-02-13 实质审查的生效 实质审查的生效 IPC(主分类):C07D 333/76 申请日:20170830
共 50 条
[1]
一种基于S,S‑二氧‑二苯并噻吩单元的强双光子吸收共轭聚合物及其制备方法与应用 [P]. 
应磊 ;
胡黎文 ;
郭婷 ;
杨伟 ;
彭俊彪 ;
曹镛 .
中国专利 :CN107540823A ,2018-01-05
[2]
双（S,S-二氧-二苯并噻吩）并五元环化合物及其制备方法与应用 [P]. 
杨伟 ;
杨勇 ;
胡黎文 ;
徐进 ;
张斌 ;
吴宏滨 ;
曹镛 .
中国专利 :CN105017302A ,2015-11-04
[3]
含S,S-二氧-二苯并噻吩单元的发光聚合物及其应用 [P]. 
杨伟 ;
郭婷 ;
肖慧萍 ;
张斌 ;
余磊 ;
梁立 ;
曹镛 .
中国专利 :CN102850528A ,2013-01-02
[4]
一种基于菲并‑S,S‑二氧‑二苯并噻吩单元的双极性小分子发光材料及其制法与应用 [P]. 
应磊 ;
赵森 ;
郭婷 ;
杨伟 ;
彭俊彪 ;
曹镛 .
中国专利 :CN107089966A ,2017-08-25
[5]
一种基于菲并‑S,S‑二氧‑二苯并噻吩单元的共轭聚合物及其制备方法与应用 [P]. 
应磊 ;
赵森 ;
郭婷 ;
杨伟 ;
彭俊彪 ;
曹镛 .
中国专利 :CN107141452A ,2017-09-08
[6]
一种基于S,S‑二氧二苯并噻吩单元的蓝色齐聚物及其制备方法与应用 [P]. 
郭婷 ;
杨伟 ;
应磊 ;
胡黎文 ;
曹镛 .
中国专利 :CN106366067A ,2017-02-01
[7]
基于二芳杂环并‑3,7‑S,S‑二氧二苯并噻吩单元的双极性发光材料及其制法与应用 [P]. 
应磊 ;
赵森 ;
郭婷 ;
杨伟 ;
彭俊彪 ;
曹镛 .
中国专利 :CN106916165A ,2017-07-04
[8]
含S,S-二氧-二苯并噻吩衍生物单元的聚合物及其制备方法与应用 [P]. 
应磊 ;
彭沣 ;
钟知鸣 ;
黄飞 ;
曹镛 .
中国专利 :CN110776622A ,2020-02-11
[9]
基于萘并‑2,7‑S,S‑二氧二苯并噻吩单元的双极性小分子发光材料及其制法与应用 [P]. 
应磊 ;
赵森 ;
郭婷 ;
杨伟 ;
彭俊彪 ;
曹镛 .
中国专利 :CN107129485A ,2017-09-05
[10]
主链含S,S‑二氧‑二苯并噻吩的D‑A型聚合物及其制备方法与应用 [P]. 
应磊 ;
彭沣 ;
胡黎文 ;
黄飞 ;
曹镛 .
中国专利 :CN107759774A ,2018-03-06
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