薄膜状高分子结构体及其制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200580028534.4

申请日：

2005-08-31

公开(公告)号：

CN101023123A

公开(公告)日：

2007-08-22

发明(设计)人：

武冈真司冈村阳介大塚正宣

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

C08J518

IPC分类号：

B82B300 B29C4112 C08L8900 B32B900

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

刘冬;李平英

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2008-04-23	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回
2007-08-22	公开	公开

共 50 条

[1]

薄膜状高分子结构体和其制备方法 [P].

武冈真司 ;

冈村阳介 ;

藤枝俊宣 ;

宇都宫沙织 ;

后藤隆宏 .

中国专利 :CN102731813A ,2012-10-17

[2]

薄膜状高分子结构体和其制备方法 [P].

武冈真司 ;

冈村阳介 ;

藤枝俊宣 ;

宇都宫沙织 ;

后藤隆宏 .

中国专利 :CN101557931B ,2009-10-14

[3]

薄膜状高分子構造体[ja] [P].

日本专利 :JP6363833B2 ,2018-07-25

[4]

高分子薄膜、膜状层叠体、及高分子薄膜的制造方法 [P].

平野千春 ;

宫田壮 .

中国专利 :CN111032752A ,2020-04-17

[5]

高分子薄膜、膜状层叠体、及高分子薄膜的制造方法 [P].

平野千春 ;

宫田壮 .

中国专利 :CN111032751A ,2020-04-17

[6]

薄膜状高分子構造体とその調製方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2006025592A1 ,2008-05-08

[7]

薄膜状高分子構造体とその調製方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2008050913A1 ,2010-02-25

[8]

接合高分子薄膜与高分子薄膜的方法、接合高分子薄膜与无机材料基板的方法、高分子薄膜层叠体及高分子薄膜与无机材料基板的层叠体 [P].

须贺唯知 ;

松本好家 .

中国专利 :CN104245280B ,2014-12-24

[9]

高分子薄膜及其制造方法 [P].

何宜学 ;

蔡孟颖 .

中国专利 :CN115505262A ,2022-12-23

[10]

高分子薄膜及其制造方法 [P].

陈志荣 .

中国专利 :CN119708768A ,2025-03-28

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