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光学层叠体的制造方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201910431993.0
申请日：
2019-05-22
公开(公告)号：
CN110531456A
公开(公告)日：
2019-12-03
发明(设计)人：
仲俊之 仓本贤尚
申请人：
申请人地址：
日本国东京都
IPC主分类号：
G02B530
IPC分类号：
代理机构：
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人：
曹阳
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2019-12-03 公开 公开
2020-12-25 实质审查的生效 实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 5/30 申请日:20190522
共 50 条
[1]
光学层叠体及其制造方法 [P]. 
西上由纪 ;
祖父江彰二 ;
田中贵景 .
日本专利 :CN111522088B ,2024-07-05
[2]
光学层叠体及其制造方法 [P]. 
祖父江彰二 ;
松野健次 ;
斋藤宗祐 ;
川上武志 .
中国专利 :CN118732133A ,2024-10-01
[3]
光学层叠体的制造方法 [P]. 
加藤慎也 ;
出崎光 .
日本专利 :CN114846371B ,2025-03-07
[4]
光学层叠体的制造方法 [P]. 
羽场康弘 ;
幡中伸行 .
中国专利 :CN109143441A ,2019-01-04
[5]
光学层叠体的制造方法 [P]. 
加藤慎也 ;
出崎光 .
中国专利 :CN114846371A ,2022-08-02
[6]
层叠体、带粘接层的层叠体、带基材层的光学层叠体、光学层叠体及其制造方法 [P]. 
西上由纪 ;
祖父江彰二 ;
田中贵景 .
中国专利 :CN111522088A ,2020-08-11
[7]
光学层叠体的制造方法、液晶层叠体、以及光学层叠体 [P]. 
仲俊之 ;
川上武志 ;
仓本贤尚 ;
孙刚勇 .
中国专利 :CN113671617A ,2021-11-19
[8]
光学层叠体及其制造方法 [P]. 
伊藤丰 ;
幡中伸行 .
日本专利 :CN117471601A ,2024-01-30
[9]
光学层叠体及其制造方法 [P]. 
伊藤丰 ;
幡中伸行 .
日本专利 :CN117471598A ,2024-01-30
[10]
光学层叠体及其制造方法 [P]. 
祖父江彰二 ;
松野健次 .
日本专利 :CN118259392A ,2024-06-28
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