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喷墨位移参数校正方法、校正装置以及校正系统
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202011597816.9
申请日：
2020-12-29
公开(公告)号：
CN114055941B
公开(公告)日：
2022-02-18
发明(设计)人：
李伟章
申请人：
申请人地址：
510000 广东省广州市广州中新广州知识城凤凰三路17号自编五栋388
IPC主分类号：
B41J211
IPC分类号：
B41J29393
B41J209
代理机构：
华进联合专利商标代理有限公司 44224
代理人：
杜寒宇
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2022-02-18 | 公开 | 公开 |
| 2022-03-08 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):B41J 2/11 申请日:20201229 |
| 2022-12-06 | 授权 | 授权 |