光学薄膜、光学元件、光学系统及光学薄膜的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201880021859.7

申请日：

2018-02-01

公开(公告)号：

CN110476088B

公开(公告)日：

2019-11-19

发明(设计)人：

梅田贤一中村诚吾园田慎一郎板井雄一郎吉弘达矢

申请人：

申请人地址：

日本国东京都

IPC主分类号：

G02B1116

IPC分类号：

B32B1501 G02B1118 G02B1520

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

薛海蛟

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-11-19	公开	公开
2019-12-13	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 1/116 申请日:20180201
2021-02-19	授权	授权

共 50 条

[1]

光学薄膜、光学元件及光学系统 [P].

梅田贤一 ;

中村诚吾 ;

吉弘达矢 ;

板井雄一郎 .

中国专利 :CN111656226A ,2020-09-11

[2]

光学薄膜、光学构件及光学薄膜的制造方法 [P].

水町靖 ;

能势正章 ;

长谷川研人 ;

青木洋辅 .

中国专利 :CN112005131A ,2020-11-27

[3]

光学薄膜的制造方法、光学薄膜及光学薄膜的制造装置 [P].

仲井宏太 ;

田中悟 ;

须藤定治 .

中国专利 :CN103119482A ,2013-05-22

[4]

光学薄膜的制造方法及光学薄膜 [P].

山田朋文 ;

下田一弘 .

中国专利 :CN101520576B ,2009-09-02

[5]

光学薄膜的制造方法及光学薄膜 [P].

下田一弘 ;

山本刚司 .

中国专利 :CN101324679B ,2008-12-17

[6]

光学元件以及光学薄膜 [P].

川岸秀一朗 ;

山下照夫 ;

白石幸一郎 .

中国专利 :CN110691995A ,2020-01-14

[7]

光学薄膜的制造方法和光学薄膜 [P].

西本圭司 ;

井上知晶 .

日本专利 :CN116583619B ,2025-11-25

[8]

光学元件、光学薄膜形成装置及光学薄膜形成方法 [P].

川岸秀一朗 ;

山下照夫 .

中国专利 :CN104066867A ,2014-09-24

[9]

光学薄膜以及光学薄膜的制造方法 [P].

小岛高明 .

中国专利 :CN107430228A ,2017-12-01

[10]

光学薄膜和光学元件的制造方法 [P].

松本诚谦 ;

圷收 ;

星野和弘 .

中国专利 :CN108732659A ,2018-11-02

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