在光学记录介质上写入的方法、光学记录介质以及制造光学记录介质的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200680021451.7

申请日：

2006-06-09

公开(公告)号：

CN101199007A

公开(公告)日：

2008-06-11

发明(设计)人：

R·J·M·武勒斯 B·范罗姆佩伊 A·米杰里特斯基 D·J·阿德勒霍夫 A·E·T·凯帕 J·G·F·卡布劳

申请人：

申请人地址：

荷兰艾恩德霍芬

IPC主分类号：

G11B70037

IPC分类号：

G11B70045 G11B2340

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

李亚非;谭祐祥

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-02-02	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101064476448 IPC(主分类):G11B 7/0037 专利申请号:2006800214517 公开日:20080611
2008-06-11	公开	公开
2008-08-13	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

制造光学记录介质的方法以及光学记录介质 [P].

三木刚 .

中国专利 :CN102027541A ,2011-04-20

[2]

光学记录介质以及用于制造光学记录介质的方法 [P].

菊地稔 ;

川崎弘幸 ;

大木隆 ;

中田芳昭 .

中国专利 :CN102024476B ,2011-04-20

[3]

光学记录介质及其制造方法、以及在光学记录介质上记录数据的方法和重放记录在光学记录介质上的数据的方法 [P].

菊川隆 ;

福泽成敏 ;

小林龙弘 .

中国专利 :CN1836280A ,2006-09-20

[4]

光学记录介质及其制造方法、以及在光学记录介质上记录数据的方法和重放记录在光学记录介质上的数据的方法 [P].

菊川隆 ;

福泽成敏 ;

小林龙弘 .

中国专利 :CN1839433A ,2006-09-27

[5]

在光学记录介质上记录的方法 [P].

迪特马·布雷厄尔 ;

霍尔格·霍夫曼 ;

哈特穆特·里克特 ;

吉尔·皮拉德 .

中国专利 :CN1992004A ,2007-07-04

[6]

光学记录介质及光学记录介质的制造方法 [P].

三木刚 .

中国专利 :CN103578503A ,2014-02-12

[7]

光学记录介质以及光学记录介质的记录/读取方法和装置 [P].

野田善宏 ;

久保秀之 .

中国专利 :CN1327416C ,2006-01-25

[8]

光学记录介质及其制造方法、在光学记录介质上记录数据的方法和从光学记录介质再现数据的方法 [P].

菊川隆 ;

福泽成敏 ;

小林龙弘 .

中国专利 :CN100373484C ,2006-08-09

[9]

光学记录介质、制造光学记录介质的方法、记录方法及再现方法 [P].

藤田五郎 ;

齐藤公博 .

中国专利 :CN102013260A ,2011-04-13

[10]

光学记录介质和光学记录方法 [P].

山口政孝 .

中国专利 :CN1476003A ,2004-02-18

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