制造光学记录介质的方法以及光学记录介质

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201080001553.9

申请日：

2010-03-10

公开(公告)号：

CN102027541A

公开(公告)日：

2011-04-20

发明(设计)人：

三木刚

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G11B726

IPC分类号：

G11B724 G11B7243

代理机构：

北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258

代理人：

王安武

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-04-20	公开	公开
2011-06-08	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101077293982 IPC(主分类):G11B 7/26 专利申请号:2010800015539 申请日:20100310
2012-12-26	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101490774585 IPC(主分类):G11B 7/26 专利申请号:2010800015539 申请公布日:20110420

共 50 条

[1]

光学记录介质以及用于制造光学记录介质的方法 [P].

菊地稔 ;

川崎弘幸 ;

大木隆 ;

中田芳昭 .

中国专利 :CN102024476B ,2011-04-20

[2]

在光学记录介质上写入的方法、光学记录介质以及制造光学记录介质的方法 [P].

R·J·M·武勒斯 ;

B·范罗姆佩伊 ;

A·米杰里特斯基 ;

D·J·阿德勒霍夫 ;

A·E·T·凯帕 ;

J·G·F·卡布劳 .

中国专利 :CN101199007A ,2008-06-11

[3]

光学记录介质及光学记录介质的制造方法 [P].

三木刚 .

中国专利 :CN103578503A ,2014-02-12

[4]

光学记录介质以及光学记录再生方法 [P].

齐藤公博 ;

山崎刚 ;

中冲有克 .

中国专利 :CN1862680A ,2006-11-15

[5]

光学记录介质基板及其制造方法、光学记录介质 [P].

中山比吕史 ;

竹本宏之 ;

菊地稔 ;

松浦穗 .

中国专利 :CN103824571B ,2014-05-28

[6]

用于光学记录介质的制造方法和光学记录介质 [P].

三木刚 .

中国专利 :CN102024477A ,2011-04-20

[7]

光学记录介质、制造光学记录介质的设备和方法以及记录/再现光学记录介质的数据的设备和方法 [P].

权埈焕 ;

黄盛凞 ;

李坰根 .

中国专利 :CN101542612A ,2009-09-23

[8]

光学记录介质以及光学记录介质的记录/读取方法和装置 [P].

野田善宏 ;

久保秀之 .

中国专利 :CN1327416C ,2006-01-25

[9]

光学记录介质以及光学记录介质的记录/读取方法和装置 [P].

野田善宏 ;

久保秀之 .

中国专利 :CN1992002A ,2007-07-04

[10]

光学记录介质、制造光学记录介质的方法、记录方法及再现方法 [P].

藤田五郎 ;

齐藤公博 .

中国专利 :CN102013260A ,2011-04-13

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